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SiC晶圓激光快速退火系統

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廠商性質其他

所  在  地成都市

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更新時間：2024-11-23 02:21:50瀏覽次數：26次

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經營模式：其他

商鋪產品：17條

所在地區：四川成都市

聯系人：王國坤

產品簡介

采用激光對重摻雜 SiC 表面沉積一種或幾種過渡金屬進行合金化，精確控制激光能量和分布，形成良好的歐姆接觸。采用激光方式可忽略襯底正面結構的影響，更好的與減薄工藝兼容，簡化工藝流程，提高器件性能。

詳細介紹

產品特點

  • · 支持薄片退火 · 優秀的退火表面形貌和電學特征

  • · 10-5Ωcm2量級的比接觸電阻率

  • · 高效率、低成本控制

  • · I F 值提高 30% 以上 · 完整的全程監控反饋功能


應用產品類型

1-1.jpg

技術指標

項目LA2540S LA2550S
晶圓尺寸4/6 Inch 兼容
典型掃描時間180 sec/p @4 inch90 sec/p @4 inch
激光能量密度≥ 5J/cm2
激光輸出穩定性≤ 2%，RMS，4hrs
比電阻接觸率

≤ 10 -5Ωcm2

自動傳片系統雙 LoadPort、多關節機器手、預準直器

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