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半導體側面泵浦激光打標機

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產品簡介

KY-DPC半導體泵浦系列激光打標機是使用振鏡激光打標技術及國際上的半導體泵浦激光技術,采用美國CEO半導體列陣，用波長808nm半導體激光二極管泵浦Nd:YAG晶體，使YAG棒產生大量的反轉粒子，在Q開關的作用下形成波長為1064nm的巨脈沖激光束輸出，激光束通過擴束、聚焦，最后通過控制振鏡的偏轉實現標刻。它是激光打標領域的一次突破性變革,此種激光器具有能耗小、電光轉換效率高、激光輸出模式穩定性好、可靠性高、體積小、打標效果好、無耗材等顯著優點。整機依照人體工程學原理采用一體化設計，外形美觀、操作方便。重要光學部件均為歐美，光路系統采用全密封結構、具有光路預覽和焦點指示功能、為機器長時間連續24小時工作提供了可靠的保障。

詳細介紹

半導體側面泵浦激光打標機

機型簡介

KY-DPC半導體泵浦系列是使用振鏡激光打標技術及國際上的半導體泵浦激光技術,采用美國CEO半導體列陣，用波長808nm半導體激光二極管泵浦Nd:YAG 晶體，使YAG棒產生大量的反轉粒子，在Q開關的作用下形成波長為1064 nm的巨脈沖激光束輸出，激光束通過擴束、聚焦，最后通過控制振鏡的偏轉實現標刻。它是激光打標領域的一次突破性變革, 此種激光器具有能耗小、電光轉換效率高、激光輸出模式穩定性好、可靠性高、體積小、打標效果好、無耗材等顯著優點。
整機依照人體工程學原理采用一體化設計，外形美觀、操作方便。重要光學部件均為歐美，光路系統采用全密封結構、具有光路預覽和焦點指示功能、為機器長時間連續24小時工作提供了可靠的保障。

機型特點

●穩定性好　　
半導體泵浦激光標記系統采用半導體技術取代傳統的電真空技術。激勵源采用大功率半導體矩陣，大大延長了產品的壽命和系統的穩定性。
● 精度高
半導體泵浦激光打標系統輸出光束質量更趨近理想模式，更適合于超精細加工，最小字符尺寸可達0.2mm,使激光標記的精度達到一個新的數量級。
● 速度快
半導體泵浦激光打標系統采用超精細的光學器件，其振鏡速度遠高于傳統激光系統。
● 能耗低
半導體激光打標系統應用高效半導體矩陣，使激光轉換效率大為提高。
● 可靠性高
半導體激光打標系統的系統集成度高，不需要高壓電源，高壓器件，極大地保證系統可靠性。
● 體積小
高度集成化的控制系統，有利于顧客更好地利用工廠空間.

適用材料及行業應用

可雕刻金屬及多種非金屬材料。更適合應用于一些要求更精細、精度更高的場合。
應用于電子元器件、集成電路（IC）、電工電器、手機通訊、五金制品、工具配件、精密器械、眼鏡鐘表、首飾飾品、汽車配件、塑膠按鍵、建材、PVC管材、等行業。
適用材料包括：普通金屬及合金（鐵、銅、鋁、鎂、鋅等所有金屬），稀有金屬及合金（金、銀、鈦），金屬氧化物（各種金屬氧化物均可），特殊表面處理（磷化、鋁陽極化、電鍍表面），ABS料（電器用品外殼，日用品），油墨（透光按鍵、印刷制品），環氧樹脂（電子元件的封裝、絕緣層）。

技術參數

型號	KY-DPC
激光輸出功率	50W 75W
激光波長	1064nm
光束質量m2	<6
激光重復頻率	≤50KHz
標準雕刻范圍	100mmX100mm
選配雕刻范圍	70mmX70mm/100mmX100mm/150mmX150mm(可選)
雕刻深度	≤0.50mm
整機功率	1.5KW
最小線寬	0.015mm
重復精度	±0.0025mm
雕刻線速	≤7000mm/s
機型尺寸(LWH)	10008701200mm
冷卻系統	高精度恒溫 ±0.1/循環冷水機