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CIK納米水性涂料乳化分散機 高速分散機實驗室

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號NKD2000

品       牌

廠商性質生產商

所  在  地上海市

更新時間:2024-08-01 21:24:44瀏覽次數:94次

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CIK納米水性涂料乳化分散機通過分散裝置中的轉子和定子的精密配合,產生強大剪切力,確保被加工物料每分鐘承受數萬次的剪切粉碎。具有轉速高,運轉穩定,噪音小,功率大,分散均質效果好等特性,并兼有攪拌、搗碎、乳化等多種功能。廣泛應用于醫學試驗、化工制藥、生物制品、食品加工等領域,對于分散搗碎生物、植物、化學、食品、飲料等制品具有的效果。

CIK納米水性涂料乳化分散機,納米涂料分散機,CIK此款三級高速剪切分散機,采用分體式結構,zui高轉速可達14000rpm,有三級工作盤,有六種不同的分散盤規程可以選擇,由粗到細,粒徑細化更小,分散更加均勻。

公司有樣機可供客戶實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導,張猛。

凡是用水作溶劑或者作分散介質的涂料,都可稱為水性涂料。水性涂料包括水溶性涂料、水稀釋性涂料、水分散性涂料3種。水溶性涂料是以水溶性樹脂為成膜物,以*及其各種改性物為代表,除此之外還有水溶醇酸樹脂、水溶環氧樹脂及無機高分子水性樹脂等。

傳統高速分散機的主要作用是將涂料研磨漿進行預混合。現代化涂料原材料中的顏料、填料都是超細化易分散的,加上潤濕分散機的運用,許多涂料不必進行研磨,僅僅使用高速分散機就可以達到規定的細度。但是對于納米涂料的生產,傳統的高速分散機是無法到達要求的,細度的要求無法滿足。

溶液分散的難點是:粉體分散到液體里面,容易形成二級團聚體,會將原本納米級的粒徑變成大的團聚體,從而難以分散細化,影響zui終產品性能。上海切可應對這種現狀,研發并生產出型的研磨+分散設備,研磨和分散一體化的設備,先研磨將二級團聚體打開,再分散,從而還原原始的納米粒徑。結合南昌某客戶的案例,使用上海切可NKD2000系列研磨分散機設備對納米涂料進行處理,研磨分散3遍,即可還原納米級粒徑,客戶很是驚喜和認可。


CIK高速分散均質機通過分散裝置中的轉子和定子的精密配合,產生強大剪切力,確保被加工物料每分鐘承受數萬次的剪切粉碎。具有轉速高,運轉穩定,噪音小,功率大,分散均質效果好等特性,并兼有攪拌、搗碎、乳化等多種功能。廣泛應用于醫學試驗、化工制藥、生物制品、食品加工等領域,對于分散搗碎生物、植物、化學、食品、飲料等制品具有的效果

 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。


NKD2000系列研磨分散設備是CIK(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) 

 

CIK納米水性涂料乳化分散機設備型號表格:

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

NKD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

NKD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

NKD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

NKD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

NKD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

NKD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

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