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藥品包衣研磨分散機藥劑用的包衣成分大概為HPMC,丙烯酸樹脂,乙醇,*,聚乙二醇,色素,制作方式為使用中等黏度的HPMC,以乙醇作分散劑,然后加水溶解,加入*、*后進行研磨處理。醫藥級*顆粒粒徑一般<0.1μm,即通常所說的納米級。材料達到納米尺度以后會表現出很多.. 納米尺寸效應.., 以零維的微觀顆粒來講, 當顆粒尺寸達到納米尺度以后, 其團聚效應顯著增加, 團聚體內顆粒的相互吸引力也顯著增大, 分散難度變大。
CIK腸溶性包衣研磨分散機NK2000系列特別適合于超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外,在摩擦狀態下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉使溶液出現渦流,因此可以達到更好的研磨分散的效果。
NK2000采用了三級錯齒磨頭定轉子,磨頭定轉子間隙在0.2-0.7之間,間隙可通過調節高速研磨機本身的調節柄來調節設備間隙,在轉速不變的情況下,間隙越小,速膠體磨研磨、分散效果會越好。故名思意,高速膠體磨有著非比尋常的轉速,CIK工程師們通過改變皮帶輪的傳動比例,使原本只有3000rpm的電機,經過傳動后設備轉速可以高達9000rpm。實踐證明,在磨頭定轉子間隙不變的情況下,轉速越高,高速研磨機研磨、分散效果越好。如果客戶想要使物料達到更好的效果,我們提供丹弗斯變頻器供客戶選擇,高速膠體磨在變頻后轉速可以達到14000rpm,是國內設備轉速的4-5倍,可謂是極速。
包衣研磨分散機NK2000結構機理:由電動機、連接體、磨頭等組成,磨盤采用優質不銹鋼鍛壓制成,磨盤表面有三個以上溝槽,分為三級。每一級的溝槽刀齒數量、方向及寬度不同,越是向外延伸一級,磨片精度越高、齒距越小、線速度越長、物料越磨越細、刀齒的數量越多、剪切面越大、線速度越長、流體速度越快、細化效果越好。機械密封分:硬質內裝機械密封、外裝雙面硬質機械密封、金屬波紋硬質機械密封等三種密封可選。磨盤刀齒根據需要可以進行特殊氮化處理,增強刀齒的硬度,起到更耐磨、耐腐蝕的作用。轉磨與定磨可根據物料粘度、產量、顆粒細度進行手工調節,其功效為剪切率大、線速度長、*、處理量大、均質細化效果好。
包衣研磨分散機與國內膠體磨的性能比較:
一、轉速和剪切速率:
CIK膠體磨,可選擇德國機械密封,轉速可以達到15000轉
F=23/0.7X1000=32857
S-1
F=40/0.7/X1000=57142
S-1
國內膠體磨,可選擇機械密封一般3000轉,大約在14293-215440
S-1
通過轉速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當于前者是后者的2-3倍。
二、膠體磨頭和間距:
CIK膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實現多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,NK膠體模塊,NKD膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續粉液混合模塊,間距可調,可實現1-10微米小粒徑材料加工。
國內膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細度有限,100微米以下較困難,重復性差。
三、機械密封:
CIK膠體磨,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運轉;
國內膠體磨,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀。
四、清洗:
CIK膠體磨,立式,皮帶驅動,易于維護,可有效保護馬達及齒輪箱,防止損壞,符合流體流動原理,具有CIP/SIP在線清洗,在線殺菌功能,無需拆卸,機器設計*,立式結構符合流體原理,清洗更簡便。
國內膠體磨,臥式或立式(馬達一體式),軸承部分受力較大,易于損壞,維護保養復雜,通常情況,需要拆卸機器進行清洗。
NKD2000系列設備型號表:
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
NKD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
NKD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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