氮氣純化設備 技術指標: 純度:≥99.9995% 氧含量:≤5ppm 氫含量:500ppm-5%(可調) 露點:≤-70℃ 特點: 采用高效催化劑除氧,不需活化,除氧范圍廣, 適用于含氧量較高,對過量氫不作要求的工藝生產。 工藝流程
技術指標: 純度:≥99.9995% 氧含量:≤5ppm 氫含量:500ppm-5%(可調) 露點:≤-70℃ 特點: 本工藝適用于加過量氫除氧后再除氫和加欠量氫后再深度除氧的兩種方式,純化后氮氣中只含有微量氧氣和微量氫氣,適用于對過量氫有一定要求的工藝場合。
| 3、JPDC-C型氮氣純化裝置 | 技術指標: 純度:≥99.9995% 露點:≤-70℃ 氧含量:≤5ppm 二氧化碳含量:5ppm 純氣壓力:0.05-0.8MPa 特點: 原料氣氧量含量小于5000ppm時,用碳載脫氧劑,不需配氫,碳纖維既是載體又是還原劑,可直接脫除惰性氣體、氮氣中的氧,脫氧容量大,深度好,適用于無氫源的場合。
技術指標: 純度:≥99.9995% 氧含量:≤5ppm 氫含量:1ppm 露點:≤-70℃ 特點: 原料氣氧量含量小于1000ppm時,使用高效脫氧劑除氧,氮氣純度和壓力不受氫氣影響。
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