作為同類中超前的3D打印系統(tǒng)

Quantum X shape 可打印任何形狀，最小尺寸可達100nm同時表面粗造度(Ra)小于5nm，打印面積可達25 cm

具備自動滴膠模組功能的優(yōu)良打印系統(tǒng)，過夜效率可達200個特征結(jié)構(gòu)。

通用高性能雙光子聚合材料，適用高分子及玻璃打印。

Reshaping precision.

作為已被工業(yè)界認可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平臺的二代加工系統(tǒng)，Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)在3D微納加工領(lǐng)域擁有驚人的高精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。

Reshaping output.

Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)不僅是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。

Reshaping usability.

通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實現(xiàn)推動工業(yè)標(biāo)準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。

主要特征：

* 納米尺度打印：在任意空間方向上的特征尺度控制，可達100nm

* 超快體素控制和100nm處理網(wǎng)格的高速3D微納加工

* 優(yōu)良的振鏡軌道控制保證的快速掃描速度下的軌跡準確度

* 自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位

* 可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇

* 工業(yè)化批量生產(chǎn)： 200個標(biāo)準介觀尺度結(jié)構(gòu)通宵產(chǎn)量

* 保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能

* 快速原型制作，高精度，高設(shè)計自由度，簡易明了的工作流程

* 工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)

* 通用及專用的打印材料

* 兼容自主及第三方打印材料