一、關于氬氣純化的方法:
種
直接脫氧法。就是使用活性金屬、催化劑與氬氣中的氧氣進行反應,消化掉氬氣中的氧氣,從而達到脫氧的目的,經過分子篩吸收掉氬氣中的水份,使氬氣的含水量小于1ppm。
第二種
是采用吸氣劑。在一定溫度下,吸氣劑可吸收氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等氣體經吸收處理后,氬氣的純度可達到6個九,這種工藝生產出來的高純氣體適用于各類儀器儀表適用要求。
種方法設備投資小,第二種方法設備純化純度高但投資相對較大。
二、技術參數:
1、處理氣量: 5~3000 Nm3/h(可根據用戶需要訂做非標設備)
2、原料氣要求: 液氬或者較好的管道氬均可使用
3、工作壓力0.2-1.6MPa可調
4、(氬氣凈化器)凈化效能:純化后符合并高于GB/T4842-2006的99.9996%要求
氣體
純度(%)
H2(ppm)
O2(ppm)
N(ppm)
CO2(ppm)
CH4(ppm)
露點 (H2O)
精氬
99.9996
≤0.5
≤0.5
≤0.5
≤0.5
≤0.5
≤1.5
三、設備特點:
1、凈化劑特點有吸附深度好,吸收雜質氣體量大的特點,純度可達99.99999%以上;
2、凈化器采用特殊結構和裝料方法,流速設計合理,氣流分布均勻;
3、全B內外精拉管管路。采用進口卡套式球閥。杜絕了氣體流經管路的再次污染。
4、雙式結構,開機后一組工作,另一組再生、備用,而且RZ-YA-C系列半自動純化裝置工作和再生都自動進行,故能夠連續供氣,一臺能頂單式的兩臺使用。
5、本公司生產的RZ-YA-D系列全自動氬氣純化裝置功能說明:
A、具有全自動功能,使用操作簡單,開、停機只需按兩個按鈕,不需扭動任何閥門,這些工作都由PLC程序自動進行;這還克服了手動和半自動機型因人為操作失誤引起的氣體不純,因此純氣質量也更加穩定。
B、控制文本顯示器采用合資品牌-昆侖通泰7吋液晶觸摸屏,實時模擬顯示工作流程狀態和各種參數顯示,并隨時可以實現各參數的修正,極大的方便工作人員的操作。
C、可根據用戶需要配備在線分析儀,時時在線監測。
四、應用領域:
該系列氬氣純化裝置用于高純氣體充裝站、焊接、不銹鋼制造、冶煉,還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣。
關鍵詞
氬氣凈化機,氬氣凈化裝置,氬氣凈化設備,氬氣凈化器,多晶硅氬氣純化設備,單晶硅氬氣凈化裝置,氬氣純化設備,氬氣純化器,氬氣純化裝置。