激光雕刻切割機準分子激光的光束近場剖面圖呈非對稱型的高階模式圖。一般準分子激光輸出光束都是來自激光雕刻切割機，輪廓為長寬比略大于2:1的矩形，在長軸方向（水平）上是高帽型（hat top）分布，在短軸方向（垂直）上是近高斯（ quasi—Gaussian）分布。在這兩個方向上，準分子激光的發(fā)散角也不一樣。在水平方向上的發(fā)散角較大，一般為十幾毫弧度，而垂直方向上的發(fā)散角為3毫弧度左右，兩個方向的發(fā)散度比為4:1左右。準分子激光激光光束在兩個方向發(fā)散角的差異，使得對于它的整形與變換存在較大的困難。

    激光雕刻切割機準分子激光的工業(yè)應(yīng)用很大程度依賴*和短期的穩(wěn)定度，以及對輻射特征如脈沖能量、光束直徑、發(fā)散角、點穩(wěn)定度準分子激光光束橫截面分布立體圖（取向穩(wěn)定度）等的精確控制。因此，除對光束參量評價的標準方法外，對激光雕刻切割機的近場和遠場光束特征的精確的測量診斷工具是有要求的。尤其重要的是對空間強度剖面的記錄。因此，除對一般光束形狀的快速評價外，也允許對zui重要光束特征參量和傳輸參量的評價。
    激光雕刻切割機中激光微加工的激光光源通常采用超短、*、超快、高光束質(zhì)量的激光。具有這些特征的激光與材料作用時，能得到明顯的微區(qū)約束性能，對非激光雕刻切割機加工區(qū)影響小，材料的加工量可以做得非常精細，甚至可以達到單原子態(tài)分離（燒蝕時），攝大地提高加工精度。

    激光加工的分辨率由公式?jīng)Q定：橫向分辨率
    因此，采用波長更短的激光雕刻切割機，可以獲得更小的加工分辨率。比如采用準分子激光進行基于冷加工機理的作用，對周圍未加工材料幾乎沒有熱影響，因而可以得到接近理想的加工邊界，整齊、陡度高、無飛濺殘留物。加工部位材料可以顯示原質(zhì)材料的優(yōu)良性能，而且在加工中很容易屏蔽常見微加工工藝中的雜質(zhì)吸附效應(yīng)：由于屬于無接觸光加工，對材料基體及加工區(qū)的性能（熱物理性能、理化性能、機械性能、電氣性能）有害影響較小，可得到滿意的加工質(zhì)量。刻蝕加工側(cè)壁面具有高的垂直度，無側(cè)向鉆蝕作用，呈現(xiàn)較顯著的各向異性刻蝕效果，因此可以得到比常規(guī)的化學(xué)腐蝕、干法刻蝕等微加工手段更大的深寬比。另外，沒有像在硅刻蝕工藝中的<110>，<100>和<111>晶面刻蝕取向選擇性的限制．沿材料的任何方向上都可進行準分子激光的加工。

    近場剖面特征：目前，工業(yè)激光雕刻切割機準分子激光運轉(zhuǎn)在脈沖重復(fù)率達幾百Hz的水平．在光子微光刻中甚至達到lkHz或2kHzo如前述，準分子激光光束的近場割面非圓對稱，其近場剖面測量受脈沖能量間隔的影響，剖面形狀和脈沖能量在大約30個脈沖后穩(wěn)定。
    點穩(wěn)定度：通過測試距離激光器輸出窗口約70cm處的一定數(shù)量激光脈沖輻照點離散度，得到其方向離散值在X方向約90um，在y方向約70um。
    脈沖能量穩(wěn)定度：準分子激光能量分布直方圖呈高斯線型。
    束寬：準分子激光光束口徑較大，一般都在幾毫米到幾十毫米之間。
    光束發(fā)散角：準分子激光光束比其他激光光源發(fā)散角大，因此進行光束變換是比較困難的。