CMSD2000納米二氧化硅改性丙烯酸樹脂研磨分散機
【簡單介紹】
新技術(shù) 采用國x先x的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
【詳細說明】
納米二氧化硅改性丙烯酸樹脂研磨分散機,納米二氧化硅改性研磨分散機,水性丙烯酸樹脂研磨分散機,丙烯酸樹脂改性研磨分散機,高剪切研磨分散機
納米二氧化硅改性
近年研發(fā)的丙烯酸樹脂/納米SiO2復(fù)合材料不但保持了有機高分子乳液成膜性好、涂膜透明性高和優(yōu)良的柔韌性,而且具有無機物的不燃性、耐摩擦性、耐溶劑性、耐候性、硬度高、耐熱性和很強的紫外線屏蔽作用等優(yōu)點
使用有機*對納米SiO2進行表面改性,然后加入到丙烯酸酯類單體中并高速剪切分散,在引發(fā)劑作用下利用原位聚合法和共混法合成了納米SiO2/水性丙烯酸樹脂復(fù)合材料,納米材料的加入,使聚丙烯酸酯分子鏈之間增加了交聯(lián),內(nèi)部形成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)使其力學性能有所提高,其耐熱性與防水性得到提高;此外,隨著納米SiO2含量的增加,由于Si-O-Si結(jié)構(gòu)的生成,使其內(nèi)部形成的自由體積增加,密度下降,硬度、拉伸強度都隨之提高,而吸水率、斷裂伸長率隨之減少,但當納米SiO2用量高于3%時,拉伸強度與吸水率開始下降。
使用溶膠一凝膠法制備納米SiO2粒子,并用納米SiO2粒子與丙烯酸樹脂進行復(fù)合,制備出的納米SiO2改性丙烯酸樹脂涂飾劑,其SiO2粒子的分散性較好,成膜具有增強、增韌效果;涂飾后的革樣在不影響其它性能的前提下,透氣性和透水汽性得到了較大的提高。
利用有機氟單體、有機硅單體對傳統(tǒng)的丙烯酸樹脂進行改性、合成了氟硅改性丙烯酸樹脂,使其具有低表面能性能,以此為成膜物質(zhì),通過添加各種微米級顏填料、納米SiO2以及各種助劑,制備出了具有微米—納米表面結(jié)構(gòu)的無毒疏水海洋防污涂料。納米SiO2的加入可以在表面形成微納米結(jié)構(gòu)從而降低涂料表面能,增強防污涂料的防污性能。顧敏豪等
通過有機*處理納米二氧化硅表面,減少了改性納米二氧化硅的團聚,提高其在涂料中的分散性。將所得改性納米二氧化硅和丙烯酸樹脂混合制備不銹鋼保護用涂料,獲得了具有高硬度、高耐污性能、耐酸耐堿性能和耐鹽霧性能優(yōu)異的納米復(fù)合涂料,提高了不銹鋼的使用壽命和使用范圍,具有很好的經(jīng)濟效益和社會效應(yīng)。
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采用原位聚合法成功制備了聚丙烯酸酯/納米SiO2有機-無機復(fù)合壓敏膠乳液,納米SiO2的引入同時提高了聚丙烯酸酯乳液的內(nèi)聚力和剝離強度,可制得初粘力大于20#球,原粘力大于100h,180°剝離強度達到11N/25mm以上的高性能乳液型壓敏膠。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
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研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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