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激光分子束外延系統

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沈陽麥科材料加工設備有限公司

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產品簡介

產品型號激光分子束外延系統產品簡介激光分子束外延是近十年來出現的高精密制膜技術，它綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優勢，可在高真空、超高真空條件下實現原位實時監控薄膜原子尺度層狀外延生長

詳細介紹

產品型號	激光分子束外延系統
產品簡介	激光分子束外延是近十年來出現的高精密制膜技術，它綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優勢，可在高真空、超高真空條件下實現原位實時監控薄膜原子尺度層狀外延生長。適用于多種有機、無機薄膜的制備，尤其適宜于用其它制膜設備和方法難以制備的高熔點、多元素（特別是含有氣體元素時）、復雜層狀結構的薄膜和超晶格的制備，并可同時進行激光與物質相互作用及成膜過程的物理、化學觀測，為探索、開發新材料、新器件及相關基礎研究提供了一個強有力的平臺。適用范圍： ★ 適用于多種有機、無機薄膜的制備，尤其適宜于用其它制膜設備和方法難以制備的高熔點、多元素（特別是含有氣體元素時）、復雜層狀結構的薄膜和超晶格的制備，并可同時進行激光與物質相互作用及成膜過程的物理、化學觀測，為探索、開發新材料、新器件及相關基礎研究提供了一個強有力的平臺。
主要特點
技術參數	主要技術指標: ★ 外延室: 直徑500mm不銹鋼球形腔體，裝配有靶組件、基片臺等部件及多種窗口/觀察窗、接口、樣品傳遞（磁傳送桿）外延室背底真空度：2～10-8 Pa以上 ★ 靶組件：可裝Φ70mm靶材4塊，可制備2英寸外延基片換靶定位精度：0.1° 靶材自傳頻率：0.5 ~ 5Hz 靶與基片間距: 調節范圍：35－95mm ★ 基片臺：基片旋轉：0 ~ 360°, 0.2 ~ 5Hz 工作溫度：850 °C 溫度起伏：≤ ±0.1 °C ★ 紅外測溫儀：測溫范圍：300～1200°C 靈敏度：0.1°C 最小可測面積：Φ2mm ★ 四極質譜儀：最小可測分壓：5x10-11Pa 質量范圍：2~100amu 靈敏度：0.4/Pa(N) ★ 二維激光掃描調節范圍：掃描角度：X,Y - 0° ~ 20° 掃描周期：X - 10 ~ 60s,Y - 30 ~ 120s 光束取向：0° ～ 360° ★ 控制計算機：可建立160個用戶（每用戶可有40個靶系統硬件組態子目錄，每子目錄有40個RECIPE工作目錄，每RECIPE可有88個STAGE） RHEED計算機數據采集和處理系統：每次可采集存儲圖像8幅、強度振蕩數據點60 000個數據采樣頻率：16個/秒、8個/秒、3個/秒、1個/秒活性氣體裝置：工作氣壓范圍： 1~ 5 x 10-3 Pa 原子氧濃度：≥10 %
產品規格
耗材
可選配件