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陜西迪恩環保科技有限公司
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純水制取中采用EDI模塊和膜分離技術相結合，這兩項技術在設備運行中對進入的水質也有著相應的要求。膜元件具有微孔極小的特點，如果進入反滲透裝置的水質大顆粒雜質較多，會直接導致膜元件堵塞
水質處理技術中預處理工藝具有對設備維護的作用，運用EDI超純水系統制取純水必須對原水進行預處理，因為原水中含有較多的雜質，如果未經處理排入EDI超純水裝置中，會造成設備的損壞，影響產水質量。
EDI超純水制取預處理應用的必要性
純水制取中采用EDI模塊和膜分離技術相結合，這兩項技術在設備運行中對進入的水質也有著相應的要求。膜元件具有微孔極小的特點，如果進入反滲透裝置的水質大顆粒雜質較多，會直接導致膜元件堵塞，影響整套設備的運行。EDI模塊屬于目前超純水制取裝置中最核心的技術，它通過電去離子的方式對水質進行純化，如果模塊被污染物質堆積，不僅僅影響離子交換工藝的正常運行，而且直接破壞了EDI模塊，EDI模塊是目前超純水制取中的技術，所以價格較其他配件貴，如果不對原水進行預處理，就會縮短設備使用壽命，給用戶帶來經濟負擔。
EDI超純水制取中預處理工藝解析
預處理的作用主要是去除或降低原水中的懸浮物質、膠體等大顆粒雜質。目前預處理常用的方式有：
1、沉淀：利用自然沉淀或藥劑軟化，使水中的泥沙、大顆粒懸浮物或硬度生成沉淀物進行沉降處理，已達到去除雜質的目的。
2、混凝澄清：利用混凝劑使水中的固體顆粒因互相接觸吸附，改變其大小形狀和密度，使其從水中分離出去。
3、過濾：是目前應用較為廣泛的一項預處理技術，與樹脂原料相結合，使水中雜質被濾料截留，澄清水質。
運用科學合理的方式對原水進行預處理，確保EDI純水裝置持續穩定運行，預處理技術的應用為純水制取奠定基礎。
EDI超純水處理
1、無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生，而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作。保護了環境。
2、連續、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產水過程是穩定的連續的，產水水質是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。
3、降低了安裝的要求：EDI系統與相當處理水量的混床相比，有較小的體積，它采用積木式結構，可依據場地的高度和窨靈活地構造。模塊化的設計，使EDI在生產工作時能方便維護。
EDI技術可以用來代替傳統的混床離子交換樹脂來制取純水或超純水，與混床不同的是EDI淡水室隔板中填充的離子交換樹脂在工作時能夠自動獲得再生而不會飽和，不需要化學再生，從而使產水程度及出水水質非常穩定。除此之外，EDI技術還具有很多優點，比如可以不間斷的出水，再生過程無需酸堿試劑，并且可以做到無人看管的全自動運行裝置。
edi超純水范圍
1.在電子工業、科研實驗室、檢驗分析行業常用EDI制取18MΩNaN以上的超純水；
2.在精細化工、發電、電鍍行業常用EDI制取15MΩNaN以上的高純水；
3.在醫院和制藥行業常用EDI制取5MΩNaN以上的純化水；
4.電子工業用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水；
5.液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液；
6.晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制；
7.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
8.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；
9.電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液；
10.顯像管和陰極射線管生產、配料用純水；
11.集成電路生產中高純水清洗硅片；
12.電子、微電子工業、精密機械行業清洗用超純水；
13.太陽能光伏，光電行業，半導體行業清洗用超純水設備；
14.單晶硅/多晶硅/硅材料/太陽能電池用工業超純水設備；
15.LCD液晶顯示器、PDP等離子顯示屏，LED光學鏡片清洗用水；
16.光學鏡片清洗、薄膜電池多晶鑄錠用超純水設備；
17.手機生產用水清洗行業；
18.玻璃鍍膜配套超高純水設備，特別是LOW-E鍍膜生產線清洗用水；
19.電鍍電泳涂裝用水、感光膠片、電鍍件清洗水；
20.電力行業鍋爐補給水、火力發電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統等企業高壓鍋爐補給水的預脫鹽處理。
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