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當(dāng)前位置:科睿設(shè)備有限公司>> TOF-SIMS供應(yīng)飛行時間二次離子質(zhì)譜公司
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號TOF-SIMS
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海市
更新時間:2024-11-25 04:04:38瀏覽次數(shù):105次
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技術(shù)參數(shù):
離子束帶來高分子量分析和高空間分辨率
四種離子束可選擇
用氣體團簇離子束SIMS,可以分析高達(dá)3000Da的分子量
無“僅蝕刻"循環(huán)的深度剖面。
快速、連續(xù)采集
冷樣品處理
氣敏和冷凍樣品,可配置手套箱
高級數(shù)據(jù)查看功能
腔室上最多可包括3種離子束。選擇包括金,C60,氣體團簇,和等離子體-每一個適合特定的樣品類型或?qū)嶒?,如下所示?/p>
離子束 | 能量 | 束斑大小 | |
金 | 25kV | <150nm<> | Z高的空間分辨率,導(dǎo)致明顯的碎片。是硬質(zhì)材料的理想選擇。 |
碳60 (C60) | 40kV | <300nm<> | 在任何材料上均勻濺射,碎裂度低,理想值可達(dá)1kDa。 |
氣體團簇 (Ar/CO2/H2O) | 40kV, 70kV | <1um<> | 有機物的高濺射率,任何束流的低碎片,是生物成像的理想選擇。 |
雙等離子體發(fā)射源 (Ar/O2/N2/Cs) | 30kV | <300nm<> | 高亮度光源,是無機材料的理想選擇。氧束提高正離子產(chǎn)率,Cs提高負(fù)離子產(chǎn)率。 |
主要特點:
深度剖面
該 SIMS非常適合于樣品的深度剖面分析。使用直流離子束進(jìn)行分析的一個重要方面是,不需要將蝕刻離子束與分析離子束交錯。為了能夠在合理的時間尺度上生成3D圖像,并去除受損的亞表面層,傳統(tǒng)的TOF實驗使用了交錯成像和蝕刻循環(huán),這些循環(huán)浪費了寶貴的樣品。在使用C60+或(CO2)n/Arn+等連續(xù)分析離子束,分析和低損傷刻蝕是連續(xù)和并行的,因此沒有數(shù)據(jù)丟失,所有材料都被采樣,使我們 SIMS成為一個非常精確的深度剖面分析工具。
溫度和大氣控制的多功能樣品處理
該 SIMS上的多功能樣品處理系統(tǒng)可以分析多種樣品類型。儀器配備液氮冷卻裝置,以便對揮發(fā)性樣品進(jìn)行分析——冷卻裝置適用于主樣品階段和樣品插入鎖。相反,樣品臺也可以加熱到600 K。
儀器配有手套箱,用于在干燥氣體下制備和插入空氣/水敏感樣品,并防止冷卻過程中結(jié)冰。由于小容量負(fù)載鎖定和高泵送速度,樣品插入很快。
半導(dǎo)體
半導(dǎo)體分析的范圍可以從淺結(jié)深度剖面到高分辨率3D成像。有五種不同的主離子束可供選擇,可以針對不同的材料或?qū)嶒烆愋瓦M(jìn)行定制。
從 40kV C60 光束中進(jìn)行選擇,即使在混合材料上也能提供高分辨率成像和均勻的濺射率,是平面設(shè)備的理想選擇?;?nbsp;FLIG 5,超低能耗 O2/Cs 光束,具有高的電流密度,是淺結(jié)深度剖析的選擇。
特征:IOG C60-40, FLIG 5, 深度剖析, 3D 成像
聚合物
液態(tài)金屬離子束會導(dǎo)致高水平的碎裂和對表面的損壞,然后必須通過GCIB將其去除。這會降低深度分辨率,并增加實驗不必要的復(fù)雜性。GCIB是主光束,因此可確保低分段,不需要僅蝕刻循環(huán),并保證高深度分辨率。
GCIB SM 是市場上能量Z高的 GCIB,能夠快速和Z小的損壞蝕刻聚合物等軟質(zhì)材料,從而實現(xiàn)比以往更大的 3D 分析量。
特征:GCIB SM, 深度剖析, 3D 成像
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