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供應(yīng)飛行時間二次離子質(zhì)譜公司

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號TOF-SIMS

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海市

更新時間:2024-11-25 04:04:38瀏覽次數(shù):105次

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動態(tài)TOF-SIMS系統(tǒng),它使用直流主束的飛行時間分析儀,創(chuàng)建了成像質(zhì)譜的新范式。直流一次離子束的使用允許快速成像和連續(xù)數(shù)據(jù)采集(即沒有單獨的蝕刻周期),同時提供高空間和質(zhì)量分辨率。特點:離子束帶來高分子量分析和高空間分辨率四種離子束可選擇用氣體團簇離子束SIMS,可以分析高達(dá)3000Da的分子量無“僅蝕刻"循環(huán)的深度剖面??焖?、連續(xù)采集冷樣品處理氣敏和冷凍樣品

技術(shù)參數(shù):


離子束帶來高分子量分析和高空間分辨率

四種離子束可選擇

用氣體團簇離子束SIMS,可以分析高達(dá)3000Da的分子量

無“僅蝕刻"循環(huán)的深度剖面。

快速、連續(xù)采集

冷樣品處理

氣敏和冷凍樣品,可配置手套箱

高級數(shù)據(jù)查看功能


腔室上最多可包括3種離子束。選擇包括金,C60,氣體團簇,和等離子體-每一個適合特定的樣品類型或?qū)嶒?,如下所示?/p>

離子束

能量

束斑大小


25kV

<150nm<>

Z高的空間分辨率,導(dǎo)致明顯的碎片。是硬質(zhì)材料的理想選擇。

碳60 (C60)

40kV

<300nm<>

在任何材料上均勻濺射,碎裂度低,理想值可達(dá)1kDa。

氣體團簇

(Ar/CO2/H2O)

40kV, 70kV

<1um<>

有機物的高濺射率,任何束流的低碎片,是生物成像的理想選擇。

雙等離子體發(fā)射源 (Ar/O2/N2/Cs)

30kV

<300nm<>

高亮度光源,是無機材料的理想選擇。氧束提高正離子產(chǎn)率,Cs提高負(fù)離子產(chǎn)率。












主要特點:

深度剖面

該 SIMS非常適合于樣品的深度剖面分析。使用直流離子束進(jìn)行分析的一個重要方面是,不需要將蝕刻離子束與分析離子束交錯。為了能夠在合理的時間尺度上生成3D圖像,并去除受損的亞表面層,傳統(tǒng)的TOF實驗使用了交錯成像和蝕刻循環(huán),這些循環(huán)浪費了寶貴的樣品。在使用C60+或(CO2)n/Arn+等連續(xù)分析離子束,分析和低損傷刻蝕是連續(xù)和并行的,因此沒有數(shù)據(jù)丟失,所有材料都被采樣,使我們 SIMS成為一個非常精確的深度剖面分析工具。


溫度和大氣控制的多功能樣品處理

該 SIMS上的多功能樣品處理系統(tǒng)可以分析多種樣品類型。儀器配備液氮冷卻裝置,以便對揮發(fā)性樣品進(jìn)行分析——冷卻裝置適用于主樣品階段和樣品插入鎖。相反,樣品臺也可以加熱到600 K。

儀器配有手套箱,用于在干燥氣體下制備和插入空氣/水敏感樣品,并防止冷卻過程中結(jié)冰。由于小容量負(fù)載鎖定和高泵送速度,樣品插入很快。

 

半導(dǎo)體

半導(dǎo)體分析的范圍可以從淺結(jié)深度剖面到高分辨率3D成像。有五種不同的主離子束可供選擇,可以針對不同的材料或?qū)嶒烆愋瓦M(jìn)行定制。

從 40kV C60 光束中進(jìn)行選擇,即使在混合材料上也能提供高分辨率成像和均勻的濺射率,是平面設(shè)備的理想選擇?;?nbsp;FLIG 5,超低能耗 O2/Cs 光束,具有高的電流密度,是淺結(jié)深度剖析的選擇。

特征:IOG C60-40, FLIG 5, 深度剖析, 3D 成像

  

聚合物

液態(tài)金屬離子束會導(dǎo)致高水平的碎裂和對表面的損壞,然后必須通過GCIB將其去除。這會降低深度分辨率,并增加實驗不必要的復(fù)雜性。GCIB是主光束,因此可確保低分段,不需要僅蝕刻循環(huán),并保證高深度分辨率。

GCIB SM 是市場上能量Z高的 GCIB,能夠快速和Z小的損壞蝕刻聚合物等軟質(zhì)材料,從而實現(xiàn)比以往更大的 3D 分析量。

特征:GCIB SM, 深度剖析, 3D 成像


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