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簡要描述:12PP方型氣旋塔的填料層用作氣液兩相接觸構件的傳質設備。填料支撐板安裝在填料塔的底部,填料隨機地放置在支撐板上。將填料壓力板安裝在填料上方,以防止其被上升氣流吹散。噴...
12PP方型氣旋塔的填料層用作氣液兩相接觸構件的傳質設備。填料支撐板安裝在填料塔的底部,填料隨機地放置在支撐板上。將填料壓力板安裝在填料上方,以防止其被上升氣流吹散。噴霧液體從塔頂通過液體分配器噴到填料上,并沿著填料表面向下流動。氣體從塔的底部進料,并由氣體分配裝置分配后,與液體逆流連續流過填料層的間隙。在填料的表面上,氣液兩相緊密接觸以進行質量傳遞。當液體向下移動到填料層時,有時會發生壁流現象,并且壁流效應導致氣液兩相在填料層中分布不均勻,從而降低了傳質效率。因此,塔中的填料層分為兩部分,中間設有重新分配裝置,重新分配后將其噴灑到下部填料上。
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