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電鍍廢水處理系統(tǒng)

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電鍍廢水:　　電鍍生產(chǎn)工藝有很多種，由于電鍍工藝不同，所產(chǎn)生的廢水也各不相同，一般電鍍企業(yè)所排出的廢水包括有酸、堿等前處理廢水，氰化鍍銅的含氰廢水、含銅廢水、含鎳廢水、含鉻廢水等重金屬廢水

詳細(xì)介紹

電鍍廢水:
　　電鍍生產(chǎn)工藝有很多種，由于電鍍工藝不同，所產(chǎn)生的廢水也各不相同，一般電鍍企業(yè)所排出的廢水包括有酸、堿等前處理廢水，氰化鍍銅的含氰廢水、含銅廢水、含鎳廢水、含鉻廢水等重金屬廢水。此外還有多種電鍍廢液產(chǎn)生。
　　對(duì)于含不同類型污染物的電鍍廢水有不同的處理方法，分別介紹如下：
1.含氰廢水
　　目前處理含氰廢水比較成熟的技術(shù)是采用堿性氯化法處理，必須注意含氰廢水要與其它廢水嚴(yán)格分流，避免混入鎳、鐵等金屬離子，否則處理困難。
　　該法的原理是廢水在堿性條件下，采用氯系氧化劑將破壞而除去的方法，處理過程分為兩個(gè)階段，階段是將氰氧化為氰酸鹽，對(duì)氰破壞不，叫做不氧化階段，第二階段是將氰酸鹽進(jìn)一步氧化分解成二氧化碳和水，叫氧化階段。
反應(yīng)條件控制：
　　一級(jí)氧化破氰：pH值10～11；理論投藥量：簡(jiǎn)單CN-:Cl2=1:2.73，復(fù)合CN-:Cl2=1:3.42。用ORP儀控制反應(yīng)終點(diǎn)為300～350mv，反應(yīng)時(shí)間10～15分鐘。
二級(jí)氧化破氰：pH值7～8（用H2SO4回調(diào)）；理論投藥量：簡(jiǎn)單CN-:Cl2=1:4.09，復(fù)合CN-:Cl2=1:4.09。用ORP儀控制反應(yīng)終點(diǎn)為600～700mv；反應(yīng)時(shí)間10～30分鐘。反應(yīng)出水余氯濃度控制在3～5mg/1。
處理后的含氰廢水混入電鍍綜合廢水里一起進(jìn)行處理。
2.含鉻廢水
　　含六價(jià)鉻廢水一般采用鉻還原法進(jìn)行處理，該法原理是在酸性條件下，投加還原劑、亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、二氧化硫等，將六價(jià)鉻還原成三價(jià)鉻，然后投加氫氧化鈉、氫氧化鈣、石灰等調(diào)pH值，使其生成三價(jià)鉻氫氧化物沉淀從廢水中分離。
還原反應(yīng)條件控制：
　　加硫酸調(diào)整pH值在2.5～3，投加還原劑進(jìn)行反應(yīng)，反應(yīng)終點(diǎn)以O(shè)RP儀控制在300～330mv，具體需通過調(diào)試確定，反應(yīng)時(shí)間約為15-20分鐘。攪拌可采用機(jī)械攪拌、壓縮空氣攪拌或水力攪拌。
混凝反應(yīng)控制條件：
PH值：7～9，反應(yīng)時(shí)間：15～20分鐘。
3.綜合重金屬廢水
　　綜合重金屬廢水是由含銅、鎳、鋅等非絡(luò)合物的重金屬廢水以及酸、堿前處理廢水所組成。此類廢水處理方法相對(duì)簡(jiǎn)單，一般采用堿性條件下生成氫氧化物沉淀的工藝進(jìn)行處理。
處理工藝流程如下：
　　綜合重金屬廢水→調(diào)節(jié)池→快混池→慢混池→斜管沉淀池→過濾→pH回調(diào)池→排放
反應(yīng)條件一般控制在pH值9～10，具體pH條件由調(diào)試時(shí)確定。反應(yīng)時(shí)間快混池為20～30分鐘，慢混池10～20分鐘。攪拌方式以機(jī)械攪拌，也可用空氣攪拌。
4.多種電鍍廢水綜合處理
　　當(dāng)一個(gè)電鍍廠含有多種電鍍廢水，如含氰廢水、含六價(jià)鉻廢水、含酸堿、重金屬銅、鎳、鋅等綜合廢水，一般采取廢水分流處理的方法，首先含氰廢水、含鉻廢水應(yīng)從生產(chǎn)線單獨(dú)分流收集后，分別按照上述對(duì)應(yīng)的方法對(duì)含氰、含鉻廢水進(jìn)行處理，處理后的廢水混入綜合廢水中與其一起采用混凝沉淀方法進(jìn)行后續(xù)處理。
處理工藝流程如下:
含氰廢水→調(diào)節(jié)池→一級(jí)破氰池→二級(jí)破氰池→綜合廢水池
含鉻廢水→調(diào)節(jié)池→鉻還原池→綜合廢水池