產品用途:
1、廣泛用于納米級的化學機械拋光,如:硅片、化合警惕、精密學器件、硬盤硬件、手機配件、電腦配件、顯示屏、寶石等納米級拋光加工
2、配合各種研磨石,鋼珠,高鋁瓷,高頻瓷軟化工件表面以加速磨削,減少研磨石 對工件的碰傷,使工件表面達到理想光澤度
3、對水有調節作用,可以使水質軟化,以充分發揮水的緩沖
注意事項:
1、由于產品在貯存一段時間后,會逐漸增稠甚至呈凍狀,所以在使用建議以1:1的水和溶液比例使用;并建議攪拌均勻在添加
2、在添加時,還應該注意體系的粘度,避免由于 基料粘度太低或 剪切速率低而導致的重絮問題
技術指導:
外觀 | 乳白色稠狀液體 | 平均原生粒徑 | 30-100nm |
比重 | 1.20--0.02 | 穩定性 | 2年 |
固含量 | 40.0--1.0 | PH值 | 1.0--8.0 |
有效含量 | 小于40% | | |