芯片加工清洗等離子處理設(shè)備價格:誠峰智造
真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-MC-6L
名稱(Name)
真空式等離子處理系統(tǒng)
型號(Model)
CRF-VPO-MC-6L
控制系統(tǒng)
PLC+觸摸屏
電源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中頻電源功率(MF Power)
2000W/40kHz
容量(Volume)
235L(Option)
層數(shù)(Electrode of plies)
6(Option)
有效處理面積(Area)
500(L)*500(W)(Option)
氣體通道(Gas)
兩路工作氣體可選: Ar、N2、CF4、O2
產(chǎn)品特點:處理空間大,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),有效控制設(shè)備運行。
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求。
保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制。
高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能。
應(yīng)用范圍:主要適用于生物醫(yī)療行業(yè),印制線路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域,硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。
芯片加工清洗等離子處理設(shè)備價格
等離子表面處理機是低溫等離子體是低氣壓放電(輝光、電暈、高頻和微波等)產(chǎn)生的電離氣體,在電場作用下,氣體中的自由電子從電場獲得能量成為高能量電子。
這些高能量電子與氣體中的分子、原子碰撞,如果電子的能量大于分子或原子的激發(fā)能就會產(chǎn)生激發(fā)分子或激發(fā)原子自由基、離子和具有不同能量的輻射線,通過離子轟擊或注入聚合物的表面,產(chǎn)生斷鍵或引入官能團,使表面活性化以達(dá)到改性的目的。
等離子體表面活化:
在等離子體作用下,難粘塑料表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵,這些活性基團與等離子體中的活性粒子接觸會反應(yīng)生成新的活性基團。但是,帶有活性基團的材料會受到氧的作用或分子鏈段運動的影響,使表面活性基團消失。
在等離子體對材料表面改性中,由于等離子體中活性粒子對表面分子的作用,使表面分子鏈斷裂產(chǎn)生新的自由基、雙鍵等活性基團,隨之發(fā)生表面交聯(lián)、接枝等反應(yīng)。
反應(yīng)型等離子體是指等離子體中的活性粒子能與難粘材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而引入大量的極性基團,使材料表面從非極性轉(zhuǎn)向極性,表面張力提高,可粘接性
此外,難粘材料表面在等離子體的高速沖擊下,分子鏈發(fā)生斷裂交聯(lián),使表面分子的相對分子質(zhì)量增大,改善了弱邊界層的狀況,也對表面粘接性能的提高起到了積極作用”。
反應(yīng)型等離子體活性氣體主要是02、H:、NH3、C02、H20、S02、H√H20、空氣、甘油蒸汽和乙醇蒸汽等。