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太倉中新寶智能裝備有限公司
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超細微無定形白炭黑可以作為消光劑分散于涂料中，具有良好的光學性能，而二氧化硅本身是超細微體，在與液體涂料分散的時候會發生團聚，增大粒徑值，分散不均勻等情況，對此，太倉（ZKE）智能裝備有限公司經過研究剛剛研發出來的一款超細微二氧化硅涂料消光劑中試型分散機，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。
一．產品名稱：超細微二氧化硅涂料消光劑中試型分散機，二氧化硅涂料消光劑分散機，超細微二氧化硅消光劑分散機
（洽談：1-5-0-2-1-9-8-5-9-1-7）
二．消光劑簡介：
涂料消光劑能使涂料表面光澤明顯降低的物質稱為涂料消光劑，其用量很多的是超微細合成二氧化硅，其次是微粉化蠟，鋁、鈣、鎂、鋅的硬脂酸鹽用量較小。此外，加入體質顏料，提高顏料含量，添加不*相容的樹脂組分以及用機械方法使涂層表面粗糙或表面壓花也可降低涂膜光澤度。涂料消光劑有時也叫消光。
三．二氧化硅涂料消光劑的特點與類型：
涂料消光劑應該具備以下特點：易于分散；消光性能好，低加入量就可以產生強消光性能；對涂膜的透明性干擾?。粚ν磕さ牧W性能和化學性能影響??；在液體涂料中懸浮性好，能長時間貯存，不會產生硬沉淀；對涂料流變性影響??；化學惰性高。
微米級二氧化硅消光劑具備以上特點，因而在涂料中用量非常多。它化學純度高，不溶于水、各種有機溶劑和一般的酸、堿，只與濃堿反應，化學惰性高。其折射率為1.46，與各種涂料用樹脂的折射率1.4~1.5接近，因而透明性好。用蠟處理的二氧化硅消光劑在貯存過程中不會在溶劑型涂料中產生硬沉淀。由于是多孔性物質，低加入量就可以產生強消光性。
微米級二氧化硅消光劑有三種類型，均為X射線無定形多孔物質。其一為微米級沉淀水合二氧化硅，原級粒子呈鏈狀堆積。它是國內外使用非常的一種，價格低，因為粒度小，用量較大，透明性較差，只適用于低檔及小部分中檔涂料，國外品牌以贏創德固賽公司的ACEMATT系列質量很好，易于分散，且有蠟處理，不易產生硬沉淀。
另一種是微米級二氧化硅氣凝膠，其原級粒子形成三維空間網狀結構，孔容一般大于1.5mL/g。國內已有生產，由于采用微米及亞微米級分級裝置，粒度分布窄，消光性和透明性與國外同類品種相當。采用蠟處理工藝，長時間放置不會產生硬沉淀。國外代表性產品為格雷斯公司C系列消光劑；INEOS公司Gasil 和HP系列消光劑。
第三種是氣相二氧化硅消光劑，以贏創德固賽公司生產的非常*。其消光性能好，透明性佳，但是易于產生沉淀。對于微米級合成二氧化硅的選擇，首先要考慮涂料品種，涂膜厚度，對透明性要求，是否防止硬沉淀等因素
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四．超細微二氧化硅涂料消光劑的制備：
與天然二氧化硅相比，白炭黑的二氧化硅純度高、惰性大、耐紫外光。無定形二氧化硅折光指數為1.46，與涂料工業中很多樹脂的折光指數相近，因而超細微無定形白炭黑可以作為消光劑分散于涂料中，具有良好的光學性能，而二氧化硅本身是超細微體，在與液體涂料分散的時候會發生團聚，增大粒徑值，分散不均勻等情況，對此，太倉（ZKE）智能裝備有限公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三組高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三組變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
一級由具有精細度遞升的三組鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
五．選型表：
型號 | 流量L/H | 轉速rpm | 線速度m/s | 功率kw | 入/出口連接DN |
GMSD2000/4 | 300 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 13500 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 2000 | 9260 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 5000 | 3664 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 8000 | 1825 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
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