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水相剝離剪切法制備石墨烯的設(shè)備
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- 上海依肯機械設(shè)備有限公司
- 119800 (具體成交價以合同協(xié)議為準)
- 2024-07-08 14:07:59
- 上海市
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【詳細說明】
水相剝離剪切法制備石墨烯的設(shè)備,水性剝離剪切石墨烯研磨分散機,水性石墨烯高剪切研磨分散機,德國高速研磨分散機,IKN管線式石墨烯研磨分散機14400轉(zhuǎn)高速研磨分散機,中試型研磨分散機,實驗室水性剝離剪切石墨烯研磨分散機
IKN研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
水相剪切剝離法制備石墨烯的新技術(shù)是北京化工大學(xué)毋偉教授在與中元龍港的合作中,他和其團隊成功研發(fā)的新技術(shù),獲得該石墨烯產(chǎn)品。
該新技術(shù)有以下幾個特點:
一、綠色環(huán)保,以水為溶劑,在常壓下進行,不加表面活性劑等有機成分,對環(huán)境無害;二、成本較低;三、由于產(chǎn)品主要是剝離法制得,缺陷少,層數(shù)低,多在七層以內(nèi),片的大小在3-5微米之間;未加入表面活性劑對產(chǎn)品無污染,純度高;產(chǎn)品的導(dǎo)電率接近50000S/m。四、所用重要設(shè)備都來自市場定型設(shè)備,所使用的添加劑也可從市場購買,原料來源廣,可膨或高純鱗片石墨及人工石墨均可。
水相剪切剝離法制備石墨烯新技術(shù)關(guān)鍵的還是所使用的設(shè)備,上海依肯機械推出了一款集膠體磨與分散機為一體的設(shè)備——研磨分散機(改進型膠體磨)它綜合了均質(zhì)機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。
CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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