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北京聲瑞高科貿有限公司-上海辦事處
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本多超聲波清洗機W-100-HFMK II 適合細膩的清洗
因為中頻清洗,對工件損傷很少。并且和低頻清洗相比,具有清洗效果均勻,噪音小的特點。
容易清洗微小的贓物
適合于清洗硬盤,半導體,液晶等微小的贓物。
適合于染色,脫氣,溶解,攪拌等用途
使用于磁頭,鏡片等的染色和脫氣,化學品的溶解和攪拌等。
型號:W-100-HFMK II T
振蕩方式:單頻振蕩
zui大功率:300W(可調整功率)
振蕩頻率:100KHz
振蕩器電源:AC100V/6A、AC200、220V/3A
(定貨時選擇)
外形尺寸(mm)W×D×H:3000×430×140
使用液溫范圍:50℃
換能器類型:投入型換能器、振動板型換能器
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