脈沖激光沉積腔體系統（PLD系統）是一個基于不銹鋼圓形腔室的真空設備。該腔室多個法蘭口可安裝實驗配件，包括RHEED、發射光譜、高溫測定、薄膜沉積晶振等，實現對薄膜生長速率的控制。該設備主要包括真空系統、磁耦合轉靶機構，高溫加熱伸縮機構。