本多超聲波清洗機W-200-HFMKII適合細膩的清洗因為中頻清洗，對工件損傷很少。并且和低頻清洗相比，具有清洗效果均勻，噪音小的特點。容易清洗微小的贓物適合于清洗硬盤，半導體，液晶等微小的贓物。適合于染色，脫氣，溶解，攪拌等用途使用于磁頭，鏡片等的染色和脫氣，化學品的溶解和攪拌等。