ETSA-300氣浮平臺
說明：
1.氣浮平臺克服了傳統機械定位臺行程短，響應滯后大，摩擦阻力等不足，實現了長行程高精度與高速定位功能，在半導體光刻設備，精密測量和生物醫學等領域中具有不可替代的作用。
2.重復定位精度高，俯仰偏擺角度小，運動臺與導軌使用同種材料，在溫度變化較大的工況下不會出現氣 浮臺常見的“抱死”現象。
特點：
通過靜壓氣浮隔離機械運動副之間的接觸，提高平臺機構運動精度、表面平滑、微小偏差（俯仰， 偏擺等）、性能穩定、沒有機械損耗、“零”摩擦可使其進入納米級應用。
使用場所：
精密加工、精密測量、微電子制造業、光刻機平臺、半導體加工業、掃描。
