為了滿足市場多樣化的需求,IB-19530CP截面拋光儀采用多用途樣品臺,通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。
根據需要可以選擇不同的功能性樣品座,不僅能截面刻蝕,還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
◇ 高通量
通過配備高速離子源和利用自動開始加工功能,不需花費時間等待加工開始,短時間內就能刻蝕。
◇ 自動加工程序
快速加工和精拋加工可以程序化,短時間內就能制備出高質量的截面。此外,利用間歇加工模式,還能抑制加工溫度。
◇ 設置簡單
功能性樣品座采用模塊化設計,在光學顯微鏡(另售)下也能調整加工位置。
◇ 多用途樣品臺
通過選擇各種功能性樣品座,不僅能截面刻蝕,還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
◇ 高耐久性遮光板
遮光板的耐久性是舊機型的3倍左右,能支持高速率加工和長時間刻蝕。
主要技術指標
離子加速電壓 | 2~8kV |
刻蝕速率 | 500μm/h |
承載樣品的尺寸 | 11mm(寬度)×10mm(長度)×2mm(厚度) |
樣品擺動功能 | 刻蝕過程中,樣品自動擺動±30° (:第4557130號) |
自動加工開始模式 | 達到設定的壓力值后可自動開始加工。 |
間歇加工模式 | 脈沖控制離子束流照射,可以抑制加工時產生的熱量。 |
精拋加工模式 | 主加工結束后,自動開始精拋加工。 |
*產品外觀及技術規格可能未經預告而有所變更。