高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng),通過的設(shè)計優(yōu)化,實現(xiàn)更簡便的操作,更快的刻寫速度,更小的占地面積和安裝空間,并且更加綠色節(jié)能。
◇ 節(jié)省空間
標準的設(shè)備占地面積為4.9m(W)×3.7m(D)×2.6m(H),比以往機型占用空間更小,外形更加緊湊美觀。
◇ 低功耗
正常工作時的功耗約為3kVA,僅需以往機型耗電量的1/3。
◇ 高產(chǎn)能
具備高分辨率和高速兩種刻寫模式,非常適用于超微細加工以及批量生產(chǎn)。該設(shè)備減少了刻寫過程中的無謂耗時,并將掃描頻率提升至業(yè)界最水準的125MHz (以往機型的1.25~2.5倍),使其具備更高的生產(chǎn)能力。
◇ 機型
JBX-8100FS系列設(shè)有G1(基本版)和G2(全配版)兩種機型。G1機型裝機后也可進行升級,使其支持更高的應用需求。
◇ 新功能
安裝光學顯微鏡(選配)后,在避免光刻膠感光的的同時可對材料上的圖形進行確認。設(shè)備還配備了信號塔(標配),實現(xiàn)了視覺范圍內(nèi)的系統(tǒng)運行狀況監(jiān)控。
◇ 激光定位分辨率
采用分辨率為0.6nm的激光干涉儀,對樣品臺位置進行高精度的量測控制。
◇ 系統(tǒng)控制
配備了Linux®系統(tǒng),圖形用戶界面使操作更加簡單,便于初學者使用。數(shù)據(jù)準備程序支持Linux®和Windows®
備注:
Linux® 為Linus Torval在日本及其它國家的注冊商標或商標。
Windows為美國微軟公司在美國及其它國家的注冊商標或商標。
主要技術(shù)指標
機型 | G1 (基本版) | G2 (全配版) |
描畫方式 | 圓形束斑, 矢量掃描, 步進重復移動方式 | ← |
加速電壓 | 100kV | 100kV/50kV |
電流 | 5×10-12 ~ 2×10-7A | ← |
寫場尺寸 | 1,000μm×1,000μm | 2,000μm×2,000μm |
掃描頻率 | 125MHz | ← |
樣品臺移動范圍 | 190mm×170mm | ← |
套刻精度 | ≦±9nm | ← |
場拼接精度 | ≦±9nm | ← |
正常工作時的功耗 | 3kVA | ← |
樣品尺寸 | 200mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小樣品。 | ← |
材料傳送 | (1張)自動裝載系統(tǒng) | (12張)自動裝載系統(tǒng) |
主要選配件 | 光學顯微鏡 |