用于光學薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。
電子束蒸鍍法的特征
用電子束直接照射鍍膜材料進行加熱，因此熱效率高，能蒸發高熔點金屬、氧化物、化合物、升華性物質等各種材料。
鍍膜材料在水冷銅坩堝內(*)被直接加熱，因此不會象電阻加熱式或感應加熱式那樣與坩堝發生反應。
*可能需要使用坩堝內襯。
能迅速控制輸出，因而能精確地控制膜厚。
與濺射法及 CVD 法相比，能快速鍍膜是一大特征。
對形成1µm 以上的厚膜也很有效。
日本電子制造的電子槍/電源的特征
[ 氧化物 ]
電子束垂直照射鍍膜材料，束斑近似圓形，具有能量密度高的特征。此外，由于標準配備了快速掃描功能，非常適合蒸鍍融點高、熱傳導性低的氧化物及升華性材料，能獲得良好的熔痕，大面積的鍍膜區域上膜厚分布均勻，重現性好。
[ 金屬 ]
坩堝的選擇范圍很大，能進行多種、大量、高速率的蒸鍍，還有用來抑制成膜時溫度上升的剝離工藝用電子槍。
[ 合金復合膜 ]
往臨近的兩個或三個坩堝內充填不同的材料，使用專用的掃描控制器進行雙源或三源蒸發，可以形成合金膜和復合膜。
| 型號 | 輸出功率 | 偏轉角度 | 燈絲 | 電子束掃描 | 坩堝 | 氧化物 | 金屬 |
| BS-60060DEBS | 6.4kW | 270° | Ｕ字形 （長壽命） | 快速 掃描 | 無*2 | ◎ | ○ |
| BS-60050EBS | 10kW | 270° | 無*2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60040VDGN | 10kW | 270° | 無*2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60030DGN | 10kW | 270° | 無*2 | ◎ | ○ | ||
| EBG-102UB6S | 10kW | 180° | 漩渦形 | 12cc×6 個 | ◎ | ○ | |
| EBG-102UB4S | 10kW | 180° | 12cc×4 個 | ◎ | ○ | ||
| JEBG-102UH0 | 10kW | 180° | 無*2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60210DEM ＋BS-60140H4H | 10kW | 270° | 直線線圈形 （長壽命） | 中速 掃描 | 40cc×4 個 | △ | ◎ |
| BS-60210DEM ＋BS-60150H6H | 10kW | 270° | 40cc×6 個 | △ | ◎ | ||
| EBG-203UB6S | 20kW*1 | 270° | 漩渦形 | 快速 掃描 | 12cc×6 個*3 | ○ | ◎ |
| EBG-203UB4H | 20kW*1 | 270° | 12cc×2 個 28cc (半球)×2 個 | ○ | ◎ | ||
| JEBG-203UA0 | 20kW*1 | 270° | 無*4 | ○ | ◎ | ||
| JEBG-303UA | 30kW*1 | 270° | 無*5 | ○ | ◎ |
*1: EB電源輸出功率為16kW，實際能使用的輸出功率為16kW。
*2: 可以定制 ?12cc×4 或6個 等
*3: 坩堝小凹孔的形狀可以改變 ? 28cc（φ45×20h）×6個， 51cc（φ60×20h）×3個等。
*4: 可以定制 ?40cc（φ50×25h）×4或6個， 114cc（φ75×30h）×1個等
*5: 可以定制 ?114cc（φ75×30h）×1個， φ34×20h×3個小凹穴（同時蒸鍍用）， φ70×30h×4個 等
關于坩堝規格請另行咨詢。
