去離子水設備主要采用預處理、反滲透技術、EDI、混床、拋光床等工藝流程,能將水中的導電介質幾乎全部取出,又能將水中不離解膠體物質、氣體和有機物去除。適用于電子光電、化工冶金、電廠鍋爐、電鍍涂裝行業;精密機械、汽車工業及醫藥純化水等行業。
去離子水設備工藝流程
去離子水設備技術原理
EDI (連續電解除鹽技術) :是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術,除鹽率高達99%,可以生產出電阻率高達15MΩ. CM以上的超純水。
FEDI:獨立的分段設計,進水要求低,產水電導率40us/cm以下既可以滿足供水要求,產水導電率可達0. 1us/cm以下,濃水可回收至反滲透系統,綜合回收率高達90%-95%。
拋光混床:一般情況用在工藝末端,用來進一步提高產水水質。采用高交換容量、充分再生、無化學析出的核子級樹脂,去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質,使水質達到18MΩ. CM以上。
去離子水處理設備特性
1、產水水質高,出水穩定,連續不間斷制水,不因再生而停機
2、自動化程度高,遇故障立即自停,具有自動保護功能
3、的膜保護系統,可自動沖洗,延長膜使用壽命,能耗低,水利用率高,運行費用及維修成本低
4、去離子水設備結構緊湊,占地面積小,節省基建投資