CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。
等離子體作用在粉體上,可以有目的地改變粉體的物理化學性質,在保持粉體原有性能的前提下,賦予其表面新的性能,使其表面性質由疏水性變為親水性或由親水性變為疏水性,從而改善粉體粒子表面的浸潤性,增強粉體粒子在介質中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有機化合物中。粉體材料表面改性是材料制備,新材料、新工藝和新產品開發的重要方法,提高了粉體材料的附加價值,擴大了粉體材料的應用領域。
CIF推出CPCP-G系列新一代帶攪拌功能的專為處理粉體樣品的等離子清洗機,采用質量流量計(MFC)氣體輸送控制。主要特點是專業、處理樣品量大、快速高效、動態清洗,處理均勻、、無污染、氣體輸入準確。
技術參數
型號 | CPCP-G | CPCP- Gplus |
艙體尺寸 | H120XΦ370mm | H120XΦ370mm |
艙體容積 | 12.8L | 12.8L |
石英轉瓶尺寸 | Φ286xH88mm | Φ286xH88mm |
轉瓶轉速 | 1-15rpm/秒可調 | 1-15rpm/秒可調 |
射頻電源 | 40KHz | 13.56MHz |
匹配器 | 自動匹配 | 自動匹配 |
射頻功率 | 10-300W可調 | 10-300W可調 |
氣體控制 | 質量流量計(MFC)(標配單路,可選雙路) | |
產品尺寸 | L618xW520xH665mm |