等離子體清洗技術(shù)的特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對玻璃、金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結(jié)構(gòu)的清洗。 等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
采用第2、3代技術(shù)的等離子清洗機(第1代是壓縮空氣,第2代是氮氣,第3代是氬氣),在3種大氣等離子清洗機中清洗能力,清洗效果與真空等離子清洗機相當,行業(yè)內(nèi)稱為大氣清洗機。
氬氣的不掉渣、不產(chǎn)生靜電、清洗;氮氣的使用方便、清洗效果好;
氬氣38℃的超低溫等離子火焰,熱損傷最小,對OLED顯示屏及芯片無損傷,不會引起顯示屏發(fā);氮氣65℃等離子火焰;
氬氣產(chǎn)生等離子的電源電壓是300V, 低電壓不會損傷清洗基材、導電膜,氮氣電壓是20000V,高壓清洗使基材表面散落下顆粒;
生產(chǎn)速度快,生產(chǎn)速度與機器皮帶速度及等離子頭數(shù)量有關(guān)。
技術(shù)參數(shù):
型號 | Ar-P500 Plasma |
電源 | AC220V,50Hz |
功率 | 1000W(Max)/13.56MHZ |
有效處理寬幅 | 20mm-3000mm(可選) |
有效處理高度 | 1mm-3mm(Max) |
處理速度 | 0-5m/min |
工作氣體 | AR或AR+O2 |