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激光分子束外延系統(tǒng)

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  沈陽麥科材料加工設(shè)備有限公司、沈陽材佳機械設(shè)備有限公司是為國內(nèi)外的大專院校、科研院所、企業(yè)提供切割類、研磨類、拋光類等設(shè)備的設(shè)計生產(chǎn)制造單位。該公司的重要組成人員在研制切、磨、拋等設(shè)備具有較深的功底,有著對國外同類產(chǎn)品的深刻理解及結(jié)合國情的創(chuàng)新精神;有著深入實際了解加工工藝并切實按工藝要求研制設(shè)備的經(jīng)歷;有著趕超水平改變我國制備設(shè)備落后局面的堅強意志。并在此基礎(chǔ)上向前邁出了堅實地步伐。他們深思熟慮在切、磨、拋等設(shè)備的升級方面,在材料制備工藝方面又有所突破,可為用戶提供制備各種材料的工藝方案。可以說,沈陽麥科材料加工設(shè)備有限公司不僅是一個專業(yè)生產(chǎn)切、磨、拋等創(chuàng)新產(chǎn)品的設(shè)備制造公司,同時又是一個能夠為用戶提供材料加工制備工藝解決之道的服務(wù)公司。  公司對用戶的原則是:開放實驗,共同研究,解決問題,始終服務(wù)。  公司產(chǎn)品的制造原則是:溫故知新厚積薄發(fā),設(shè)計服從加工工藝,工藝決定產(chǎn)品功能。  公司的發(fā)展目標(biāo)是:緊密用戶關(guān)系,攜手共贏,為國家材料制備加工手段現(xiàn)代化而奮斗。  近日由浙江省組織的"浙江省長三角聯(lián)合項目"《金剛石鋸絲快速潔凈制造技術(shù)及裝備項目》成果評審驗收會,我公司總經(jīng)理張革作為特邀專家評審出席這次會議。
陶瓷切割機
產(chǎn)品型號激光分子束外延系統(tǒng)產(chǎn)品簡介激光分子束外延是近十年來出現(xiàn)的高精密制膜技術(shù),它綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優(yōu)勢,可在高真空、超高真空條件下實現(xiàn)原位實時監(jiān)控薄膜原子尺度層狀外延生長
激光分子束外延系統(tǒng) 產(chǎn)品信息
產(chǎn)品型號 激光分子束外延系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介

  激光分子束外延是近十年來出現(xiàn)的高精密制膜技術(shù),它綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優(yōu)勢,可在高真空、超高真空條件下實現(xiàn)原位實時監(jiān)控薄膜原子尺度層狀外延生長。適用于多種有機、無機薄膜的制備,尤其適宜于用其它制膜設(shè)備和方法難以制備的高熔點、多元素(特別是含有氣體元素時)、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜和超晶格的制備,并可同時進行激光與物質(zhì)相互作用及成膜過程的物理、化學(xué)觀測,為探索、開發(fā)新材料、新器件及相關(guān)基礎(chǔ)研究提供了一個強有力的平臺。

 

適用范圍: 
      適用于多種有機、無機薄膜的制備,尤其適宜于用其它制膜設(shè)備和方法難以制備的高熔點、多元素(特別是含有氣體元素時)、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜和超晶格的制備,并可同時進行激光與物質(zhì)相互作用及成膜過程的物理、化學(xué)觀測,為探索、開發(fā)新材料、新器件及相關(guān)基礎(chǔ)研究提供了一個強有力的平臺。

 

主要特點
技術(shù)參數(shù)

主要技術(shù)指標(biāo): 
 ★ 外延室:
直徑500mm不銹鋼球形腔體,裝配有靶組件、基片臺等部件及多種窗口/觀察窗、接口、樣品傳遞(磁傳送桿)
外延室背底真空度:2~10-8 Pa以上
 ★ 靶組件: 
可裝Φ70mm靶材4塊,可制備2英寸外延基片 

換靶定位精度:0.1° 
靶材自傳頻率:0.5 ~ 5Hz
靶與基片間距: 

調(diào)節(jié)范圍:35-95mm
  基片臺:
基片旋轉(zhuǎn):0 ~ 360°, 0.2 ~ 5Hz
工作溫度:850 °C
溫度起伏:≤ ±0.1 °C
  紅外測溫儀:
測溫范圍:300~1200°C
靈敏度:0.1°C
最小可測面積:Φ2mm
  四極質(zhì)譜儀:
最小可測分壓:5x10-11Pa
質(zhì)量范圍:2~100amu
靈敏度:0.4/Pa(N)
  二維激光掃描調(diào)節(jié)范圍:
掃描角度:X,Y - 0° ~ 20°
掃描周期:X - 10 ~ 60s,Y - 30 ~ 120s
光束取向:0° ~ 360°
  控制計算機:
可建立160個用戶(每用戶可有40個靶系統(tǒng)硬件組態(tài)子目錄,每子目錄有40個RECIPE工作目錄,每RECIPE可有88個STAGE)
RHEED計算機數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng):
每次可采集存儲圖像8幅、強度振蕩數(shù)據(jù)點60 000個
數(shù)據(jù)采樣頻率:16個/秒、8個/秒、3個/秒、1個/秒
活性氣體裝置:
工作氣壓范圍: 1~ 5 x 10-3 Pa
原子氧濃度:≥10 % 

產(chǎn)品規(guī)格
耗材
可選配件
關(guān)鍵詞:質(zhì)譜儀
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