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Compact ALD原子層沉積系統

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱科睿設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CompactALD
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/11/21 20:11:31
  • 訪問次數120
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科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』、『品質』、『服務』、『創新』的企業文化,為廣大中國用戶提供儀器、設備,周到的技術、服務和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發展的中國,納米科學研究、薄膜材料(包括半導體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發、有機高分子合成等等領域,都需要與歐美發達國家*接軌的儀器設備平臺來實現。科睿設備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設在中國香港,在中國上海設立了分公司,在國內多個城市設立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產品和服務。2010年,科睿設備有限公司在上海設立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術服務和后期的維修保障服務,我們擁有專業的應用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應,72小時內趕到現場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經為國內眾多科研院所和大學根據用戶的要求配制和提供了上百套系統,主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導體所,中科院大連化學物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學,清華大學,中國科技大學,南京大學,復旦大學,上海交通大學,華東理工大學,浙江大學,中山大學,西安交通大學,四川大學,中國工程物理研究院,香港大學,香港城市大學,香港中文大學,香港科技大學等。



光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
該ALD擁有達到或超過市場上其他品牌的功能,同時易于使用和維護 - 成本低于當今市場上的價格腔室溫度:室溫到325°C±1°C;前軀體溫度從室溫到 150 °C ± 2 °C(帶加熱夾套)市場上Z小的占地面積(2.5 平方英尺),臺式 安裝和潔凈室兼容簡單的系統維護和實用程序和 市場上的前體使用流線型腔室設計和小腔室體積快速循環能力全硬件和軟硬件聯鎖,即使操作安全 在多用戶環境中
Compact ALD原子層沉積系統 產品信息

用于電子顯微鏡的樣品通常受益于薄膜的添加。它通常是導電材料,例如Pt,Pd或Au。這些導電層有助于抑制電荷,減少局部光束加熱引起的熱損傷,并改善二次電子信號。

傳統上,這些薄膜是使用PVD技術生長的。隨著技術的進步,某些類型的樣品不能通過PVD提供,因為需要涂層的特征無法進入現場生長線。

研究人員將受益于ALD生長的導電薄膜,因為已經開發出針對小樣品導電金屬生長進行了優化的系統(與臺式濺射的價格點相同) 

為保形導電薄膜提供了用于 3D 樣品制備的解決方案,同時還提供目前使用濺射/蒸發生長的傳統 2D 鍍膜。我們不僅突破了界限,而且是當前樣品制備過程的有效替代品,所有這些都在臺式配置中,價格相當。


熱ALD / PEALD

沉積工藝:
金屬:Ru、Ti、Co、…

氧化物:Al2O3、HfO2、TiO2、SnO2、NiOx、ZnO、ZrO、SiO2、RuO、,。。。

氮化物:TiN、TaN等,。。


基板尺寸:工件Z大為6英寸

源注入:雙型噴頭

基板加熱器溫度:RT至Z高350℃(@晶片)

前軀體化學源數量:3套

源瓶加熱:RT至150℃

射頻功率:600W@13.56Mhz

極限壓力:≤5.0×10-3乇

泵:干式泵或旋轉泵

沉積均勻度:≤±3%

系統控制:PC控制(UPRO軟件)

可選 源瓶加熱溫度200℃

尺寸(寬*長*高)850mm*720mm*600mm


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