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進口電子束蒸發(fā)器報價

參考價	面議

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱科睿設(shè)備有限公司
品牌
型號
所在地上海市
廠商性質(zhì)其他
更新時間2024/11/24 17:03:15
訪問次數(shù)196

產(chǎn)品標簽:

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公司介紹主營產(chǎn)品

科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理?？祁９疽回灡小赫\信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化，為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備，周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國，納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域，都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代，我們愿意化為一座橋梁，見證中國科技水平的提升，與中國科技共同飛速成長。
科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港，在中國上海設(shè)立了分公司，在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站，旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年，科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心，同時提供在大陸的各項技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù)，我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員，并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件，能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應(yīng)，72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務(wù)！
因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng)，主要用戶包括：中科院物理所，中科院半導(dǎo)體所，中科院大連化學(xué)物理研究所，國家納米中心，上海納米中心，北京大學(xué)，清華大學(xué)，中國科技大學(xué)，南京大學(xué)，復(fù)旦大學(xué)，上海交通大學(xué)，華東理工大學(xué)，浙江大學(xué)，中山大學(xué)，西安交通大學(xué)，四川大學(xué)，中國工程物理研究院，香港大學(xué)，香港城市大學(xué)，香港中文大學(xué)，香港科技大學(xué)等。

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光刻機，鍍膜機，磁控濺射鍍膜儀，電子束蒸發(fā)鍍膜儀，開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量)，氣溶膠設(shè)備，氣溶膠粒徑譜儀，等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)，原子層沉積系統(tǒng)(ALD)，快速退火爐，氣溶膠發(fā)生器，稀釋器，濾料測試系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介在線詢價

四袋電子束蒸發(fā)器Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of almost any material in the temperature

進口電子束蒸發(fā)器報價產(chǎn)品信息

四袋電子束蒸發(fā)器

儀器簡介：
The e-flux Mini E-Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of almost any material in the temperature
range of 400K to 3100K. Evaporation is possible either directly from evaporant in rod form (?26mm)
or out of a crucible. An integrated flux monitor allows maximum deposition control.
Highly efficient watercooling ensures negligible outgassing during operation.
The e-flux electron beam evaporator is very compact and mounted on a CF-40 flange (2.75"OD).
很容易安裝在已經(jīng)有的 UHV 或 MBE系統(tǒng)上。
主要應(yīng)用是：表面科學(xué)，薄膜沉積，薄膜摻雜
主要蒸發(fā)材料： Mo, Ta, W, Au, Ag, Pt, Al, Cu, Ni, Ti, C, Si, Cr
四袋電子束蒸發(fā)器
技術(shù)參數(shù)：
真空腔體內(nèi)長度: 190mm (without options). Special length possible on request.
Z大真空端直徑: 34mm
安裝法蘭口徑: NW40CF (2.75"OD)
烘烤溫度: max. 200°C
rod feed棒材: 25mm, optionally 50mm
坩堝體積: 0,3ccm
坩堝材料: Mo, Ta, W, pyrol. Graphite, BN liner, Al2O3, Quartz
沉積速率: from<0,01a>2nm/s
束流發(fā)散角: ±15° (±12° with flux monitor)
電子束功率: max. 600W
控制器: 19" rack mount, 3U high,
230VAC/50Hz

選項:
擋板 (manual and motorised)
flux monitor/flux controller, Deposition Controller*
熱電偶
離子阱
各種坩堝 (see above) with end caps for horizontal mount
motorised rod feed
control options (schematic)

主要特點：
特點:
1,發(fā)射電流穩(wěn)定性:
The emission current stabilizer is a closed loop control to keep the emission
current constant automatically with rod melting down or decrease of crucible content

2,LED提示棒材位置
An LED alerts when the evaporation rod has to be fed. Threshold can be customer set.

3,可輸入需要的發(fā)射電流
The emission current can now be set directly on a linear scale for easy reproduction.

4,離子阱選項
The ion trap option allows to deflect all charged particles out of the beam.