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銷(xiāo)售無(wú)掩膜曝光機(jī)供應(yīng)商

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)科睿設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/11/20 21:20:06
  • 訪問(wèn)次數(shù)234
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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠(chéng)信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)用戶(hù)提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征、表面材料物性分析、生物藥物開(kāi)發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄海?jiàn)證中國(guó)科技水平的提升,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng)。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶(hù)提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專(zhuān)業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專(zhuān)門(mén)的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修。以利于更好、更快的為中國(guó)大陸服務(wù)!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶(hù)的困難和需求。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶(hù)的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶(hù)包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國(guó)家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國(guó)工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



光刻機(jī),鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)
無(wú)掩膜曝光機(jī)美國(guó)IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù),已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶(hù)較多!
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無(wú)掩膜曝光機(jī)

美國(guó)IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù),已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶(hù)較多!

     產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):
     微米和亞微米光刻,最小0.6微米光刻精度
      紫外光直寫(xiě)曝光,無(wú)需掩模,大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用
     靈活性高,可直接通過(guò)電腦設(shè)計(jì)光刻圖形,并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整。
      可升級(jí)開(kāi)放性系統(tǒng)設(shè)計(jì)。
      按照客戶(hù)要求可從低端到自由配置
     使用維護(hù)簡(jiǎn)單, 設(shè)備耗材價(jià)格低。
      應(yīng)用范圍廣,目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。

    SF-100 型
      可配置汞燈光源和LED光源,多種波長(zhǎng)曝光(385nm, 405nm)

      目鏡最小像素 1um
      1.25 micron with 4X reduction lens
      0.50 micron with 10X reduction lens
      0.25 micron with 20X reduction lens

  無(wú)掩膜曝光機(jī)

 平臺(tái)參數(shù)
      全自動(dòng)電腦控制位移
      高精度三維線性驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)

     

 X and Y 軸運(yùn)動(dòng):
      移動(dòng)范圍: 100--300mm
      準(zhǔn)確性: +/-200 nm per axis
      重復(fù)性: +/- 50 nm per axis
    

  Z 軸運(yùn)動(dòng):
      移動(dòng)范圍: 25 mm
      準(zhǔn)確性: +/- 200 nm
      重復(fù)性: +/- 75 nm
     

 Theta 轉(zhuǎn)動(dòng):
      轉(zhuǎn)動(dòng)角度: 360 degrees
      準(zhǔn)確性: +/-5 arc sec
      重復(fù)性: +/-2 arc sec

 
激光共聚焦對(duì)準(zhǔn)功能

關(guān)鍵詞:傳感器
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