銷售電子束蒸發器公司

參考價	面議

參考價

面議

具體成交價以合同協議為準

公司名稱科睿設備有限公司
品牌
型號
所在地上海市
廠商性質其他
更新時間2024/11/18 14:21:16
訪問次數87

產品標簽:

在線詢價收藏產品進入展商展臺

聯系方式：張垚13916855175 查看聯系方式

聯系我們時請說明是塑料機械網上看到的信息，謝謝!

索取相關資料

公司介紹主營產品

科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』、『品質』、『服務』、『創新』的企業文化，為廣大中國用戶提供儀器、設備，周到的技術、服務和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發展的中國，納米科學研究、薄膜材料(包括半導體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發、有機高分子合成等等領域，都需要與歐美發達國家*接軌的儀器設備平臺來實現。科睿設備有限公司有幸成長在這個火熱的年代，我們愿意化為一座橋梁，見證中國科技水平的提升，與中國科技共同飛速成長。
科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設在中國香港，在中國上海設立了分公司，在國內多個城市設立了辦事處或維修站，旨在為客戶提供*的產品和服務。2010年，科睿設備有限公司在上海設立備品倉庫及維修中心，同時提供在大陸的各項技術服務和后期的維修保障服務，我們擁有專業的應用維修人員，并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓。上海配備了多種維修部件，能使我們的服務更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應，72小時內趕到現場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務！
因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經為國內眾多科研院所和大學根據用戶的要求配制和提供了上百套系統，主要用戶包括：中科院物理所，中科院半導體所，中科院大連化學物理研究所，國家納米中心，上海納米中心，北京大學，清華大學，中國科技大學，南京大學，復旦大學，上海交通大學，華東理工大學，浙江大學，中山大學，西安交通大學，四川大學，中國工程物理研究院，香港大學，香港城市大學，香港中文大學，香港科技大學等。

展開顯示更多內容

光刻機，鍍膜機，磁控濺射鍍膜儀，電子束蒸發鍍膜儀，開爾文探針系統(功函數測量)，氣溶膠設備，氣溶膠粒徑譜儀，等離子增強氣相沉積系統(PECVD)，原子層沉積系統(ALD)，快速退火爐，氣溶膠發生器，稀釋器，濾料測試系統

產品簡介在線詢價

四袋電子束蒸發器Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of almost any material in the temperature

銷售電子束蒸發器公司產品信息

四袋電子束蒸發器

儀器簡介：
The e-flux Mini E-Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of almost any material in the temperature
range of 400K to 3100K. Evaporation is possible either directly from evaporant in rod form (?26mm)
or out of a crucible. An integrated flux monitor allows maximum deposition control.
Highly efficient watercooling ensures negligible outgassing during operation.
The e-flux electron beam evaporator is very compact and mounted on a CF-40 flange (2.75"OD).
很容易安裝在已經有的 UHV 或 MBE系統上。
主要應用是：表面科學，薄膜沉積，薄膜摻雜
主要蒸發材料： Mo, Ta, W, Au, Ag, Pt, Al, Cu, Ni, Ti, C, Si, Cr
四袋電子束蒸發器
技術參數：
真空腔體內長度: 190mm (without options). Special length possible on request.
Z大真空端直徑: 34mm
安裝法蘭口徑: NW40CF (2.75"OD)
烘烤溫度: max. 200°C
rod feed棒材: 25mm, optionally 50mm
坩堝體積: 0,3ccm
坩堝材料: Mo, Ta, W, pyrol. Graphite, BN liner, Al2O3, Quartz
沉積速率: from<0,01a>2nm/s
束流發散角: ±15° (±12° with flux monitor)
電子束功率: max. 600W
控制器: 19" rack mount, 3U high,
230VAC/50Hz

選項:
擋板 (manual and motorised)
flux monitor/flux controller, Deposition Controller*
熱電偶
離子阱
各種坩堝 (see above) with end caps for horizontal mount
motorised rod feed
control options (schematic)

主要特點：
特點:
1,發射電流穩定性:
The emission current stabilizer is a closed loop control to keep the emission
current constant automatically with rod melting down or decrease of crucible content

2,LED提示棒材位置
An LED alerts when the evaporation rod has to be fed. Threshold can be customer set.

3,可輸入需要的發射電流
The emission current can now be set directly on a linear scale for easy reproduction.

4,離子阱選項
The ion trap option allows to deflect all charged particles out of the beam.