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美國無掩膜曝光機

參考價面議
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  • 公司名稱科睿設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/11/14 6:21:00
  • 訪問次數258
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科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』、『品質』、『服務』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器、設備,周到的技術、服務和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學研究、薄膜材料(包括半導體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領域,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設備平臺來實現。科睿設備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設在中國香港,在中國上海設立了分公司,在國內多個城市設立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產品和服務。2010年,科睿設備有限公司在上海設立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術服務和后期的維修保障服務,我們擁有專業(yè)的應用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應,72小時內趕到現場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經為國內眾多科研院所和大學根據用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導體所,中科院大連化學物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學,清華大學,中國科技大學,南京大學,復旦大學,上海交通大學,華東理工大學,浙江大學,中山大學,西安交通大學,四川大學,中國工程物理研究院,香港大學,香港城市大學,香港中文大學,香港科技大學等。



光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)
無掩膜曝光機美國IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光技術,已成為無掩模紫外光刻領域的。國內參考用戶較多!
美國無掩膜曝光機 產品信息

無掩膜曝光機

美國IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光技術,已成為無掩模紫外光刻領域的。國內參考用戶較多!

     產品優(yōu)點:
     微米和亞微米光刻,最小0.6微米光刻精度
      紫外光直寫曝光,無需掩模,大幅節(jié)約了掩模加工費用
     靈活性高,可直接通過電腦設計光刻圖形,并可根據設計要求隨意調整。
      可升級開放性系統(tǒng)設計。
      按照客戶要求可從低端到自由配置
     使用維護簡單, 設備耗材價格低。
      應用范圍廣,目前廣泛應用于半導體、生物芯片、微機電系統(tǒng)、傳感器、微化學、光學等領域。

    SF-100 型
      可配置汞燈光源和LED光源,多種波長曝光(385nm, 405nm)

      目鏡最小像素 1um
      1.25 micron with 4X reduction lens
      0.50 micron with 10X reduction lens
      0.25 micron with 20X reduction lens

  無掩膜曝光機

 平臺參數
      全自動電腦控制位移
      高精度三維線性驅動樣品臺

     

 X and Y 軸運動:
      移動范圍: 100--300mm
      準確性: +/-200 nm per axis
      重復性: +/- 50 nm per axis
    

  Z 軸運動:
      移動范圍: 25 mm
      準確性: +/- 200 nm
      重復性: +/- 75 nm
     

 Theta 轉動:
      轉動角度: 360 degrees
      準確性: +/-5 arc sec
      重復性: +/-2 arc sec

 
激光共聚焦對準功能

關鍵詞:傳感器
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