型號HC-XAFS-T
熱催化原位池是一款為研究電極材料在熱催化實(shí)驗(yàn)中的結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)。工作電極(WE)放置在透視窗口處,從而使X射線能夠穿透工作電極。
●此裝置主體為高強(qiáng)度鋼結(jié)構(gòu),可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓(配置小窗口可以實(shí)現(xiàn)更高壓力);
●實(shí)現(xiàn)1℃精確控溫;
●此原位池可用于透射模式原位XAFS測試;
●靈活控制階梯式升溫,并可通入各種反應(yīng)氣氛,實(shí)時(shí)監(jiān)測升溫條件下物相變化;
●光窗直徑:13mm; 光學(xué)窗口選用Be窗;樣品片為粉末狀圓片;
●配循環(huán)冷卻裝置,循環(huán)水溫控制在25oC。