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Zeta電位與粒徑分析儀(奧法美嘉)

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奧法美嘉(Alpharmaca)科技有限公司于2010年在上海成立,立足于醫藥行業,耕耘于納米科學材料,化工,半導體,環境科學,汽車,過濾,涂料,墨水,油品等行業,以專業的納米微米檢測技術,“致力粒度分析,專注客戶體驗"。這已經成為奧法美嘉團隊的信條。借助于20多年的行業積累和技術儲備,奧法美嘉將世界上處于技術前沿地位的美國PSS粒度儀公司的激光粒度儀引入到中國市場,秉承著“傳授粒度真知"“普及粒度知識"的理念,伴隨著納米知識的普及,伴隨著中國經濟向制造業的轉型,經過短短幾年,奧法美嘉科技有限公司作為美國PSS粒度儀公司在中國的代表,從COE的建立運營,到如今覆蓋全中國銷售網絡和售后服務網絡,不僅用真誠的態度,而且用務實的專業知識,獲得了廣大客戶的*好評。Particle Solutions srl(意大利PSI均質機公司)位于意大利海濱工業城鎮拉齊奧地區,毗鄰歷史悠久的古城羅馬,由從事粒度相關領域內杰出的歐洲科學家以及工程師所組成的團隊發起創立。公司團隊擁有25年粒度檢測知識積累,15年儀器工業設計經驗,15年高壓均質技術經驗及應用研究。通過深入發掘客戶需求和應用難點,PSI團隊研發出了新型高壓微射流均質機,其穩定可控的均質壓力及高剪切力保證了工藝可線性放大且可保證大產量需求,低噪音的設計理念可大大減緩傳統工藝中的高噪音對于操作人員的不利影響,小巧緊湊的機身設計可以*適應從實驗室研發到中試及大生產的各種工作場景。自組建以來,團隊累積了大量醫藥,生物,半導體,新材料等行業的相關應用經驗。現奧法美嘉綜合PSS粒度儀和PSI均質機,為中國制造業提供納米技術領域內從生產研發設備到檢測儀器的整套解決方案。
沉降粒度儀
簡要描述:Zeta電位與粒徑分析儀是在原有的經典型號380ZLS基礎上升級配套而來,采用動態光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理檢測分析顆粒的粒度分布,同機采用多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)檢測ZETA電位。
Zeta電位與粒徑分析儀(奧法美嘉) 產品信息
詳情介紹

基本信息

圖片1.png

儀器型號:Zeta電位與粒徑分析儀

工作原理:動態光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)

檢測范圍: 0.3nm-10.0μm

     Nicomp 380 N3000系列納米激光粒度儀是在原有的經典型號380DLS基礎上升級配套而來,采用動態光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理檢測分析顆粒的粒度分布,粒徑檢測范圍 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析軟件復合采用了高斯( Gaussian)單峰算法和 Nicomp 多峰算法,對于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有*優勢。

 

 

技術優勢

 

1、高靈敏度PMT檢測器;

2、可搭配不同功率光源;

3、接近樣品真實值;

4、快速檢測,可以追溯歷史數據;

5、結果數據以多種形式和格式呈現;

6、符合USP,CP等個多藥典要求;

7、無需校準;

8、復合型算法:

(1)高斯(Gaussion)單峰算法與Nicomp多峰算法自由切換

9、模塊化設計便于維護和升級;

(1)可自動稀釋模塊(選配);

(2)自動進樣系統(選配);

(3)搭配多角度檢測器(選配)

 

Nicomp多峰分布概念

 

基線調整自動補償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器兩個主要特點,Dave Nicole很早就認識到傳統的動態光散射理論僅給出高斯模式的粒度分布,這和實踐生產生活中不相符,因為現實中很多樣本是多分散體系,非單分散體系,而且高斯分布靈敏性不足,分辨率不高,這些特點都制約了納米粒度儀在實際生產生活中的使用。Nicomp多峰分布理論,大大提高了動態光散射理論的分辨率和靈敏性。

 

圖一:Nicomp多分分布數據呈現

 

如圖一:此數據為Dave Nicole親測其血液所得的真實案例。其檢測項目為:高密度脂蛋白,低密度脂蛋白和超低密度脂蛋白,由圖中可以看出,其血液中三個組分的平均粒徑分別顯示在7.0nm;29.3nm和217.5nm。由此可見,Nicomp分布模式可以有效反應多組分體系的粒徑分布。

 

 

Nicomp多峰分布優勢

Nicomp系列儀器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切換。其不僅可以給出傳統的DLS系統的結果,更可以通過Nicomp多峰分布模式體現樣品的真實狀況。依托于Nicomp系列儀器一系列的算法和高靈敏性的硬件設計,Nicomp納米激光粒度儀可以有效區分1:2的多分散體系。

圖片3.png圖片4.png

 

圖二:高斯分布及Nicomp多峰分布對比圖

如圖二:此數據為檢測93nm和150nm的標粒按照1:2的比例混合后所測得的數據。左邊為高斯分布(Gaussian)結果,右圖為Nicomp多峰分布算法結果,兩者都為光強徑數據。從高斯分布可以得到此混合標粒的平均粒徑為110nm-120nm之間,卻無法得到實際的多組分體系結構。從右側的Nicomp多峰分布可以得到結果為雙峰,即如數據呈現,體系中的粒子主要分布于98.2nm以及190nm附近,這和實際情況相符。

 

為滿足不同客戶的實際檢測需求,我司的Nicomp 380 N3000會配備相應的配置,旨在為客戶們在控制成本的基礎上,得到需求的解決方案,取得收益。

 

產品優勢

 

 

模塊化設計

Nicomp 380納米激光粒度儀是全*在應用動態光散射技術上的基礎上加入多模塊方法的粒度儀。隨著模塊的升級和增加,Nicomp 380的功能體系越來越強大,可以用于各種復雜體系的檢測分析。

 

自動稀釋模塊

自動稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差,且不需要人工不斷試錯來獲得合適的測試濃度,這大大縮短了測試者寶貴時間,且無需培訓,測試結果重現性好,誤差率<1%。

 

380/HPLD大功率激光器

美國PSS粒度儀公司在開發儀器的過程中,考慮到在各種極實驗測試條件中不同的需求,對不同使用條件和環境配置了不同功率的激光發生器。大功率的激光器可以對小的粒子也能搜集到足夠的散射信號,使得儀器能夠得到小粒子的粒徑分布。同樣,大功率激光器在測試大粒子的時候同樣也很有幫助,比如在檢測右旋糖酐大分子時,折射率的特性會引起光散射強度不足。

因為大功率激光器的特性,會彌補散射光強的不足和衰減,測試微小的微乳、表面活性劑膠束、蛋白質以及其他大分子不再是一個苛刻的難題。即使沒有色譜分離,Nicomp 380納米粒徑分析儀甚至也可以輕易估算出生物高分子的聚集程度。

 

 

 

關鍵詞:粒度儀
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