分析方法能量色散X熒光分析方法 測量元素范圍鎂(Mg)到鈾(U)之間的元素均可測量 同時檢測元素數幾十種元素可同時分析 處理器和內存CPU:667MHz,內存:256M,擴展存儲支持32G,標配2G,可以海量存儲數據 含量范圍ppm~99.99% 檢測時間3-30秒 GPS、WIFI內置系統 檢測對象固體、液體、粉末 探測器25mm2 0.3mil,SDD探測器 探測器分辨率可達139eV 激發源40KV/100uA-銀靶端窗一體化微型X光管及高壓電源 視頻系統高清晰攝像頭 顯示屏半透半反式液晶顯示觸摸屏,其分辨率是640*480 檢出限檢出限達ppm級 安全性自帶密碼管理員模式,數據可隨意保存 可充氣系統常壓充氦氣系統 數據傳輸數字多道技術,SPI數據傳輸,分析,高計數率 操作環境濕度≤90% 儀器外形尺寸234×306×82mm(L×H×W) 儀器重量1.9Kg(配備電池),1.6Kg(無電池)
手持式光譜儀產品詳細資料介紹,手持式光譜分析儀技術參數和性能配置由蘇州實譜信息科技有限公司提供手持式光譜儀報價和操作說明。按照不同的行業和測試物質,可分為手持式合金分析儀XRF5000,手持式礦石分析儀XRF7000,XRF8000,手持式土壤重金屬分析儀XRF9000,手持式ROHS有害元素分析儀XRF3000。利用新一代半導體檢測器提高測試速度和分析精度,手持式光譜儀的應用已經越來越廣泛。手持式光譜儀在使用的時候,對于環境也是有一定的要求,不要在潮濕的環境下工作的,環境濕度0-95%之間為好,不能在太高溫下操作工作,這樣的理由是避免各類磁場的干擾,如此儀器分析的時候才能檢測出更的精度。所以,大家在工作的時候要注意環境的適合度,很多時候儀器檢測不標準跟環境還是有很大程度上的關系。
合金分析儀技術性能:
1. 真正實現在現場進行無損,,準確的檢測,直接顯示元素的百分比含量。 2. 只需將合金分析儀直接接觸待測合金表面,無須等待和花費時間即可現場確定合金等級。 3. 被檢測的樣品的對象可以是合金塊、合金片、合金線、合金渣、合金粉。 4. 不規則或小型樣品的補償性測試方法能檢測很小或很少的樣品,如直徑為0.04mm的細絲也能立即辨認。 5. 手式可延伸的探頭設計能對管道內部、焊縫,等位置進行檢測。 6. 可檢測溫度高達450℃的高溫材料。 7. 可現場在庫中添加,編輯,合號。 8. 快的分析速度,僅需2秒鐘可識別合金元素。 9. 用戶化windowsCE6.0系統驅動的微電腦顯示系統使所有功能皆可現場完成,用戶化windows CE僅保留有基本的windows與Delta系統有關的性能,使程序更具靈活性。 10. 無需借助電腦,可在現場隨意,查看,放大相關元素的光譜圖。 11. 防塵,防霧,防水:一體機設計,軟膠與塑膠部件凸槽凹槽構造設計,使儀器具有很好的三防性能,可承受惡劣的工作環境,大霧,下雨,塵土飛揚工裝場地也能正常工作。 12 更高的檢測精度,多次測試的平均值統計功能可有效地提高儀器的檢測精度。 13 超大的圖標顯示,菜單式驅動,微電腦WINDOWS系統使儀器操作更加簡便。 14. 電磁干擾被屏蔽,即使在靠近手機或雙向無線通信裝置處也能正常工作。
手持式分析儀 探測器:13mm2 電致冷Si-PIN探測器 激發源:40KV/50uA-銀端窗一體化微型X光管 檢測時間:10-200秒(可手持式或座立式測試) 檢測對象:固體、液體、粉末 檢測范圍:硫(S)到鈾(U)之間所有元素 可同時分析元素:多至26個元素 元素檢出限:0.001%~0.01% 校正方式: 銀(Ag) 性:自帶模式,非人員無法使用 Data使用性:可在PDA內進行編輯,可導入PC機進行 保存打印,配備海量存儲卡 電 源: 兩塊鋰電池滿電可連續工作8小時
手持式光譜儀設備維護與保養:
1.手持式光譜儀使用過程中應輕拿輕放,防止內部零件受損。
2.保持檢測口薄膜的清潔,檢測口薄膜被污染可能引起檢測誤差。檢測口薄膜破損繼續使用可能會造成手持式光譜儀的損壞。應及時清潔或更換。
3.被檢測物表面的氧化層和污染物等要用砂輪機或金剛砂去除,以免造成測量結果不準確,被檢測物表面凹凸不平、有毛刺時應在檢測時注意,防止手持式光譜儀檢測口薄膜損壞。檢測鍍件時,要將電鍍層去除。
4.手持式光譜儀電池使用至10%時,應更換電池,充電。
手持式光譜儀系統誤差的來源有: (1)標樣和試樣中的含量和化學組成不相同時,可能引起基體線和分析線的強度改變,從而引入誤差。 (2)標樣和試樣的物理性能不相同時,激發的特征譜線會有差別從而產生系統誤差。 (3)澆注狀態的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態的鋼樣金屬組織結構不相同時,測出的數據會有所差別。 (4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時,混入未知合金元素而引入系統誤差。 (5)要系統誤差,必須嚴格按照標準樣品制備規定要求。為了檢查系統誤差,需要采用化學分析方法分析多次校對結果。