執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):
GB3836.1-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備 部分:通用要求》
GB3836.2-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備 第二部分:隔爆型“d” 》
GB 3836.15-2000 《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備第 15 部分:危險(xiǎn)場(chǎng)所電氣安裝( 煤礦除外) 》
GBT50493-2019 石油化工可燃?xì)怏w和有毒氣體檢測(cè)報(bào)警設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)
GB12358-2006 《作業(yè)場(chǎng)所環(huán)境氣體檢測(cè)報(bào)警儀 通用技術(shù)要求》
GBZ 2.1-2007 《工作場(chǎng)所有害因素職業(yè)接觸限值》
GB 4208-2008 《外殼防護(hù)等級(jí)(IP 代碼)》
在線式多合一濃度檢測(cè)儀外形尺寸:
注意事項(xiàng):
氣體在線式多合一濃度檢測(cè)儀量程參照法規(guī):
關(guān)于有毒有害氣體接觸限值與其濃度多少時(shí)對(duì)人體的危害等相關(guān)問(wèn)題,請(qǐng)咨詢氣體銷(xiāo)售人員
常用氣體選型表:
檢測(cè)氣體 | 量程 | 允許 誤差值 | 最小讀數(shù) | 響應(yīng)時(shí)間T90 |
可 燃?xì)?/span>(E X) | 0-100LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
可 燃?xì)?/span>(E X) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-30%Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氮 氣(N 2) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-20000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-500ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-50000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-20%Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
臭 氧(O 3) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-5ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-30000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-20mg/L | <±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
臭 氧水(O 3) | 0-20mg/L | <±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
氫(H 2S) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-20ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-500ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-20ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-200ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-20000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-40000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氦 氣(H e) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氬 氣(A r) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氙 氣(X e) | 0-100Vol | <±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氫(H CN) | 0-30ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氫(H CN) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氫(H CL) | 0-20ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氫(H CL) | 0-200ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氫(P H3) | 0-5 ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氫(P H3) | 0-25 ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氫(P H3) | 0-2000 ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-200ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-100LEL | <±3%(F.S) | 1%LEL | ≤30秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
硅 烷(Si H4) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硅 烷(Si H4) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴化 氫(HB r) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
烷(B2 H6) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氫(As H3) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氫(As H3) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氫(As H3) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-2ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-20ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
聯(lián) 氨(N2 H4) | 0-1ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
聯(lián) 氨(N2 H4) | 0-300ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
四氫 噻吩(TH T) | 0-100mg/m3 | <±3%(F.S) | 0.01 mg/m3 | ≤60秒 |
溴 氣(B r2) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-1000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100LEL | <±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 醛(C2 H4O) | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 胺(C H5N) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
典 氣(I 2) | 0-50ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-200ppm | <±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯乙 烯(C2H3 CL) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氯 乙烯(C2H CL3) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
四氯 乙烯(C2 CL4) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
笑 氣(N 2O) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氟 化氮(N F3) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
過(guò)氧 化氫(H 2O 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-30000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-200g/m3 | <±3%(F.S) | 0.1g/m3 | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-5000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-10000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-10ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-100ppm | <±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-2000ppm | <±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |