產(chǎn)品用途:
1、本產(chǎn)品不含強(qiáng)酸、強(qiáng)堿,不具毒性、氧化性和燃性,具有良好的去污性、防銹和清潔功能
應(yīng)用范圍:
廣泛用于納米級的化學(xué)機(jī)械拋光,如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件,硬盤盤片,手機(jī)配件,電腦配件、顯示屏等納米級拋光加工
1、本產(chǎn)品不含強(qiáng)酸、強(qiáng)堿,不具毒性、氧化性和燃性,具有良好的去污性、防銹和清潔功能
2、中磨劑是對粗磨留下痕跡進(jìn)行整修,是工件表面達(dá)到理想的平整度更有利于精磨工序的加工,對工作有保護(hù)及潤滑作用,提高工件表面光潔度和光亮度
3、并能使金屬制品超過原來的光澤,其污水排放符合環(huán)保要求
4、根據(jù)各種材質(zhì)的工件 磨拋需要,研制成不同的中磨液應(yīng)用范圍:
廣泛用于納米級的化學(xué)機(jī)械拋光,如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件,硬盤盤片,手機(jī)配件,電腦配件、顯示屏等納米級拋光加工
技術(shù)指導(dǎo):
外觀 | 乳白色稠狀液體 | 有效含量 | 小于40% |
比重 | 1.2-0.2 | PH值 | 6.5-1.0 |
固含量 | 40.0-1.0% | 平均原生粒徑 | 30-10nm |
穩(wěn)定性 | 2年 |