共聚焦顯微系統技術參數
LED光源：λ= 505 nm, MTBF: 50,000 h
測量時間：5~10秒
測量原理：非接觸、共聚焦
X/Y方向，平臺移動范圍：50mmX50mm，馬達驅動，分辨率：0.3μm
Z方向測量范圍：250μm，分辨率：2nm
物鏡：10X、20X、50X、100X(可選)
計算機：高性能計算機控制系統，功能全面的軟件，有拼接功能，
工作電源：100-240V, 50-60Hz, input<45W
材質：鋼鐵、橡膠、大理石
外型尺寸：710x270x330 mm (HxD)
重量：28KG
潔凈室等級: Capability class 6 (according to DIN EN ISO 14644)

共聚焦顯微系統
μsurf系列產品采用多孔共聚焦技術，結合CCD的影像攝取，以有許多孔洞的旋轉盤取代偵測器的孔洞，再將物鏡垂直移動，以類似斷層攝影方式，可在短時間(約幾秒)內精確量測物體的三維數據。其測量方式是非接觸式，不會破壞樣品的表面，不需要在真空環境下測量，也可以用顯微鏡測量的功能來觀測樣本，其在嚴酷的工作環境下，也能正常使用。由于使用了共聚焦的方法，在測量漸變較大的高度時，跟其他方法相比，可以更精確量測物體高度，建立3D立體影像，優勢相當明顯。

NanoFocus μsurf explorer精密測量、表面分析系統機臺功能齊全，結構緊湊，性價比高，并擁有超高光學分辨率和zui全面廣泛的三維表面形貌分析能力。

共聚焦顯微系統應用
μsurf系列用來測量表面物理形貌，進行微納米尺度的三維形貌分析，如3D表面形貌、2D的縱深形貌、輪廓（縱深、寬度、曲率、角度）、表面粗糙度等。
? 精密部件：檢測對表面磨損，表面粗糙度，表面微結構有要求的零部件，比如發動機汽缸、刀口等;
? 生命科學：測量stents支架上鍍層厚度等
? 微電子機械系統：微型器件的檢測，醫藥工程中組織結構的檢測，如基因芯片等
? 半導體：檢測微型電子系統，封裝及輔助產品結構設計
? 太陽能：電池片柵線的3D形貌表征、高寬比測量，制絨后3D形貌表征（單晶金字塔大小、數量、角度，多晶腐蝕坑形貌、密度），粗糙度分析等
? 紙張：紙張、錢幣表面三維形貌測量