氮化硅薄膜窗口
隨著各種軟X射線光源的出現(xiàn),如同步輻射、激光等離子體等高亮度的X射線源的發(fā)展,軟X射線顯微成像技術(shù)在范圍內(nèi)得到迅速發(fā)展。在此領(lǐng)域,需要應(yīng)用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。
1. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成;
2. RISUN提供的氮化硅窗選用低應(yīng)力氮化硅(0-250MP)薄膜,和ST氮化硅薄膜相比,低應(yīng)力產(chǎn)品更堅(jiān)固耐用,成為用戶的;
3. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域,例如,X-射線(上海光源透射成像/能譜線站)、TEM、SEM、IR、UV等。
透光度
使用透射(光學(xué))顯微鏡時(shí),*可以透過(guò)薄膜窗進(jìn)行觀察。但薄膜窗的厚度有一定限制,否則其透光度會(huì)明顯下降。對(duì)于X射線用窗口,500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果,對(duì)于軟X射線(例如碳邊吸收譜),100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶。