在金屬分析領域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析手段之一。表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區域實現質量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學成分。
對于傳統的分析方法不能解決的材料表面涂鍍層分析問題，輝光放電光譜技術可以作為優先選用的方法。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質和油漆涂層。

主要特點：
1.涂（鍍）層材料和均相材料化學成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量
2.濃度分布測定和表層測量數據的定性/定量評價
3.測定被分析表面層內部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環境，日常分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶的軟件功能選項，如顯示輸出、數據傳輸和數據格式