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光學(xué)表面測量系統(tǒng) Leica DCM8

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海繪吉電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2022/9/13 8:30:45
  • 訪問次數(shù)182
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上海繪吉電子科技有限公司主要代理歐、美、日及科學(xué)儀器、工業(yè)質(zhì)檢儀器及相關(guān)消耗品,專業(yè)涉及高校、新能源、鋼鐵行業(yè)、科研研究及輕工化工、在國內(nèi)特別是華東地區(qū)具有廣泛的客戶基礎(chǔ)和良好的商業(yè)信譽。經(jīng)過幾年的發(fā)展,繪吉公司已經(jīng)在同行業(yè)中確立了多方面的好的地位,無論在公司規(guī)模、人員素質(zhì)、經(jīng)營品種、銷售能力和售后服務(wù)等各方面獲得了同行及用戶的廣泛認可。 上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀,真空系列等分析類設(shè)備),電池材料制備設(shè)備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。。上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀等分析類設(shè)備),德國普發(fā)真空設(shè)備,電池材料制備設(shè)備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。上海繪吉-德國普發(fā)真空Pfeiffer Vacuum-作為的真空技術(shù)解決方案的供應(yīng)商之一。我們不僅擁有全系列的混合軸承及全磁懸浮渦輪分子泵, 同時還擁有各種旋片泵,干泵,羅茨泵,氦氣質(zhì)譜檢漏儀,真空規(guī),四級質(zhì)譜儀等產(chǎn)品以及真空管件和綜合真空系統(tǒng)。 從普發(fā)1958年發(fā)明渦輪分子泵至今, 我們在分析、研發(fā)、鍍膜、太陽能、半導(dǎo)體和其他工業(yè)領(lǐng)域,始終代表著創(chuàng)新的解決方案、高品質(zhì)、穩(wěn)定可靠的產(chǎn)品和的服務(wù)。公司自1890年創(chuàng)立至今百余年,現(xiàn)有將近2300名員工,20多家分公司遍布,并且在德國、法國、羅馬尼亞、韓國設(shè)有生產(chǎn)制造基地。隨著中國綜合國力的提升,產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)升級,以及對節(jié)能減排,科研和高精尖制造工藝的強烈需求,對真空技術(shù)的需求也在不斷的提升。作為德國 Pfeiffer Vacuum GmbH 的全資子公司,普發(fā)真空技術(shù)上海有限公司 Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于 2007 年正式入駐中國上海,標(biāo)志著普發(fā)真空在中國的業(yè)務(wù)已經(jīng)初具規(guī)模,以及公司對中國持續(xù)增長的信心。公司現(xiàn)坐落于上海市浦東新區(qū)世紀公園附近,并且在江蘇無錫建有 4000m2 的售后服務(wù)工廠。上海繪吉電子科技有限公司獲得深圳科晶智達科技有限公司一級代理權(quán),科晶為研究新一代可充電電池,超級電容器與快速儲能材料提供最完整的成套解決方案。方案定位于鋰電池的研究市場,主要為大專院校、科研院所以及生產(chǎn)企業(yè)提供實驗室用的小型混壓設(shè)備和機械加工與測試等一系列產(chǎn)品,提供研發(fā)環(huán)節(jié)所需的電池能源材料制備相關(guān)設(shè)備產(chǎn)品與成套實驗室方案:“混料-燒料-分析-涂層-成型-封裝-測試”設(shè)備:球磨機、高溫高壓爐、材料分析儀、涂層機、軋機、切片機、封裝機、電池分析儀等。上海繪吉電子科技有限公司成功和進口公司合作。德國普發(fā)真空設(shè)備,德國布魯克儀器有限公司,分析儀器有限公司,美國PE公司,美國熱電儀器有限公司,天美科技有限公司,島津,萊卡儀器,日本horriba,梅特勒等進口公司
激光拉曼光譜,分子熒光光譜,激光粒度儀
光學(xué)表面測量系統(tǒng) Leica DCM8
光學(xué)表面測量系統(tǒng) Leica DCM8 產(chǎn)品信息

 Leica DCM8將高清共聚焦顯微技術(shù)和干涉測量技術(shù)融合在一起,更添加了豐富的附加功能,使各種 材料表面特性的精確再現(xiàn)變得便利起來。為滿足您的記錄需求,系統(tǒng)的內(nèi)置百萬像素CCD攝像頭 和4個LED光源提供非同凡響的真彩成像功能.

  常規(guī)技術(shù)參數(shù)

1.測量原理:非接觸式3D雙核光學(xué)成像輪廓測定法(共聚焦和干涉測量)。

2.功能:高清成像、高清3D形貌、輪廓、坐標(biāo)、厚度、粗糙度、體積、表面紋理、光譜分析、 色彩分析等。 

3.對比度模式:高清共聚焦、高清干涉測量(PSI、ePSI、VSI)、高清明場彩色、明場、暗場、實時高清RGB 共聚焦。

4.樣品高度 標(biāo)準(zhǔn)型:40 mm;包括可調(diào)立柱:150 mm;根據(jù)要求可提供更高的樣品高度。

5.物鏡 共聚焦、明場和暗場模式下,放大倍率1.25×至150×;干涉測量模式下,放大倍率5×至 50×。

6.物鏡轉(zhuǎn)盤 6位手動式物鏡轉(zhuǎn)盆/6位電動式物鏡轉(zhuǎn)盆。

7.載物臺掃描范圍(x、y、z) 垂直:z = 40 mm;水平:XY = 100x75 mm (標(biāo)準(zhǔn)),或= 300x300 mm ()。 根據(jù)要求,可提供更大的載物臺。

8.垂直掃描范圍 共聚焦40 mm,PSI20 mm,ePSI100 mm,VSI10 mm。 

9.照明 LED光源:紅色(630nm),綠色(530nm),藍色(460nm)和白色。

10.圖像采集 CCD黑白傳感器:1360x1024像素(全分辨率);黑白35FPS 真彩/共聚焦:3FPS(全分辨率),10FPS(半分辨率),15FPS影像共聚焦。

11.樣品反射率 0.1%-99%。 

12.尺寸和重量 長x寬x高= 573 mm x390 mm x569 mm;重量:48kg 。

13.工作條件 溫度:10°至35°C;相對濕度(RH) < 80%;海拔高度< 2000 m 。

14.隔振 有源或無源 。

15.再現(xiàn)性(50x放大倍率) 共聚焦/VSI:誤差= 0.003 mm (3nm);PSI:誤差= 0.16nm (0.00016 mm)。 

16.精確度(20x放大倍率) 開環(huán):相對誤差< 3%;閉環(huán):誤差< 20nm。

  共聚焦模式 

物鏡放大倍率:1.25× 2.5× 5× 10× 20× 50× 100× 150×

數(shù)值孔徑:0.04 0.07 0.15 0.3 0.5 0.9 0.95 0.95 

視場(μm):14032x 10560 7016x 5280 3508x 2640 1754x 1320 877x660 351x264 175x132 117x88 

光學(xué)分辨率(X/Y): (μm) 3.5 2.0 0.94 0.47 0.28 0.16 0.14 0.14

縱向分辨率(nm): <3000 <350 <150 <30 <15 <5 <2 <2 

典型測量時間: 3-5s

  干涉測量模式 

物鏡放大倍率:5× 10× 20× 50× 

數(shù)值孔徑:0.15 0.30 0.40 0.50

視場(μm):3508x2640 1754x1320 677x660 351x264 

光學(xué)分辨率(藍光)(X/Y)(μm):0.94 0.47 0.35 0.28 

光學(xué)分辨率(白光)(X/Y)(μm):1.12 0.56 0.42 0.33 

縱向分辨率(nm) PSI <0.1;ePSI < 1.0;VSI < 3.0 

垂直掃描速度(μm/s) VSI/ePSI:2.4 – 17μm/s 

典型測量時間 PSI:3 – 6sVSI:10s;ePSI:30s

關(guān)鍵詞:傳感器
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