電子級H2SO4又稱高ChunH2SO4、屬于超凈高純試劑，是一種微電子技術發展過程中*的關鍵基礎化學試劑，主要用于硅晶片的清洗和蝕刻，可有效除去晶片上的雜質顆粒、無機殘留物和碳沉積物。電子級H2SO4的純度和潔凈度對電子元件的成品率、電性能及可靠性有著重要的影響。

從純度上來講，電子級和分析純的化學品，相對于普通化學品，其純度都很高，雜質含量少，但是兩個屬于不同的標準體系，對雜質的關注點不一樣。 電子級是對用于電子元器件生產過程中使用的化學品的一種泛指，相對于一般工業，其純度要求更高，尤其是平板顯示行業或者半導體行業。其更每種化學品更中的有害雜質含量，金屬離子，固體顆粒等等。用于半導體工業的電子級化學品純度一般比分析純的化學試劑更高，可參考SEMI相關化學品的標準。對于芯片生產過程來說，一般情況下，純度會在99.999%數量級，12寸芯片生產可能會用到99.999999999%純度的化學品。 分析純是化學試劑的一個純度標準，這個系列里包括 優級純，分析純，化學純和實驗純。其中分析純干擾雜質很少，適用于工業分析及化學實驗，比如用于滴定之類的分析。

在復雜的芯片生產工藝中，H2SO4也是*的試劑。

硅圓片在加工過程中，常常會被不同的雜質所沾污，硅圓片上不溶性固體顆粒或金屬離子可能在微細電路之間導電，使之短路。鈉、鈣等堿金屬雜質也會融進氧化膜中，導致耐絕緣電壓下降。硼、磷、砷等雜質離子會影響擴散劑的擴散效果，塵埃顆粒會造成光刻缺陷，氧化層不平整，影響制版質量和等離子蝕刻工藝。

為了獲得高質量集成電路芯片，必須除去各種沾污物，這就需要使用非常純凈的化學試劑來清洗硅圓片。H2SO4和過氧化氫可以按比例組成有強氧化性的SPM清洗液，將有機物氧化成CO2和H2O。它還可用于光刻過程中的濕法蝕刻去膠，借助于化學反應從硅圓片的表面除去固體物質，導致固體表面全部或局部溶解。

H2SO4在此處的作用是消除晶圓上的各種雜質，那么其本身就肯定不能做為污染源再引入雜質，因此該工藝對于H2SO4本身純凈度的要求也相當高。1975年，美國的半導體設備與材料協會（Semiconductor Equipment and Materials International，SEMI）首先為微電子工業配套的電子級化學品制定了統一標準（SEMI標準）；1978年，德國的默克公司也制定了MOS標準。兩種標準對電子級化學品中金屬雜質和微粒（塵埃）的要求各有側重，分別適用于不同級別IC的制作要求。

 E-Scan系列電子級H2SO4濃度分析儀采用臨界角檢測原理，檢測不受物料的顏色，渾濁度，氣泡，固體顆粒等雜質的影響、具備高精度的自動溫度補償功能。采用優秀的分體式體式，全屏蔽抗干擾設計，光電信號直接轉換處理。摒棄一體式不耐振動和高溫的影響的缺點，保障了在線測量的精度及延長儀器使用壽命。內置光纖光路傳導系統，擁有優秀的抗震性能和高穩定性、內置溫度傳感器和干燥劑有效監測糖度儀的運行狀態。

E-Scan系列電子級H2SO4濃度在線分析儀可以安裝在不同管徑的管道或者罐體容器壁上，進行濃度監測和控制，可以直接顯示質量*（Percent)、固形物含量(S.G.)、密度(T.T.A)或用戶自定義的單位，現場顯示并可以模擬信號（RS232)遠傳至電腦進行即時數據存儲、打印、追溯等功能；通過4-20ma信號遠傳至plc/dcs /變頻器進行監控或控制。

E-Scan系列電子級H2SO4在線分析儀擁有以下特征：

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●免維護、無耗材、無漂移、自診斷功能，智能報警信號輸出功能；

●防護等級：NEMA4X(IP67）；

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